[实用新型]CVD/PVD设备专用吊具

说明书

技术领域

本实用新型涉及起重技术领域，具体地，涉及CVD/PVD设备专用吊具。

背景技术

CVD(chemical vapor deposition，化学气相沉积)，是指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。经过CVD处理后，表面处理膜密着性约提高30％，防止高强力钢的弯曲，拉伸等成形时产生的刮痕。

PVD(physical vapor deposition，物理气相沉积)，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

当前CVD/PVD设备在利用普通吊耳进行吊装时，由于普通吊具的结构设计不合理，在吊装过程中容易损坏CVD/PVD设备，且普通吊具受限于厂房高度，使得CVD/PVD设备无法进行正常吊装。

实用新型内容

针对现有技术中的缺陷，本实用新型的目的是提供一种CVD/PVD设备专用吊具。

根据本实用新型提供的CVD/PVD设备专用吊具，包括：固定卡头、连接装置、起吊机构，所述连接装置与起吊机构的上端部以可拆卸方式安装成一个整体结构，该整体结构的上端部与固定卡头紧固连接。

优选地，所述固定卡头包括：顶部、侧壁、底部以及由顶部、侧壁、底部所围成的内腔，所述顶部上设置有连接机构，所述连接机构能够与起重设备相连。

优选地，所述侧壁与底部相对应位置处设置有安装缺口；连接装置与起吊机构装配成的整体结构的上端部通过该安装缺口安装在固定卡头的内腔中。

优选地，所述整体结构的上端部通过螺栓柱与固定卡头紧固连接。

优选地，所述起吊机构包括：吊钩和/或T型头。

优选地，所述连接装置包括：连接头、圆销、圆销套以及压片；所述连接头的上端部设置有凹环，所述圆销套设在该凹环位置，圆销套套装在圆销外，所述压片套设在连接头的上端部并位于圆销与圆销套之间。

优选地，还包括锁紧装置，所述锁紧装置为插销，所述插销通过固定卡头底部贯穿安装缺口的预留台阶孔将由连接装置与吊钩装配成的整体结构的上端部锁死在固定卡头的内腔中。

与现有技术相比，本实用新型具有如下的有益效果：

本实用新型提供的专用吊具解决了当前市场对于CVD及PVD设备的吊装问题，整体结构设计合理，能够在不同的厂房高度环境中使用，解决了因厂房高度不够造成的对设备无法吊装的问题；并通过设置连接装置，使得起吊机构可以在吊钩和T型头之间自由切换。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本实用新型提供的吊具的侧视图；

图2为本实用新型提供的吊具的固定卡头内腔的局部示意图；

图3为本实用新型提供的吊具的固定卡头与T型头的紧固安装示意图；

图中：

1-固定卡头；

2-T型头；

3-压片；

4-圆销；

5-螺栓柱；

6-插销；

7-圆销套。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本实用新型，但不以任何形式限制本实用新型。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变化和改进。这些都属于本实用新型的保护范围。

根据本实用新型提供的CVD/PVD专用吊具，包括：固定卡头1、连接装置、起吊机构，所述连接装置与起吊机构的上端部以可拆卸方式安装成一个整体结构，该整体结构的上端部与固定卡头1紧固连接。

所述固定卡头1包括：顶部、侧壁、底部以及由顶部、侧壁、底部所围成的内腔，所述顶部上设置有连接机构，所述连接机构能够与起重设备相连；所述侧壁与底部相对应位置处设置有安装缺口；连接装置与起吊机构装配成的整体结构的上端部通过该安装缺口安装在固定卡头1的内腔中。

所述整体结构的上端部通过螺栓柱5与固定卡头1紧固连接。

所述起吊机构包括：吊钩和/或T型头2。

下面结合附图对本实用新型中的技术方案做更加详细的说明。