[实用新型]可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及薄膜技术领域，特别是涉及用于配方中有粒子的光学膜涂布的系统。

背景技术

在TFT-LCD液晶显示领域中，为了得到能满足要求的光学膜，如反射膜、扩散膜、增亮膜、复合DBEF膜等，需要在不同的光学支持体薄膜的正面或背面涂覆含有光学粒子的涂料，在涂覆生产中，需要涂覆装置将涂料均匀的涂覆在不同的光学支持体薄膜上。由于涂料中含有各种不同粒经的光学粒子，为了保证光学粒子均匀地涂覆在光学支持体薄膜上，通常采用辊涂、凹版涂覆或微凹版涂覆装置进行。

在实际应用中，以上涂覆方式均存在有以下不足，主要是在涂覆过程中，涂布槽供液单点或多点的不均匀供料，涂料在涂布槽中分布、流速不均匀，流速慢，产生涡旋，造成光学粒子的聚集后，沉积在涂布槽底部，无法及时清除，导致涂料在涂布过程中而形成质量弊病，如拉丝、暗纹、条道等，需要经常停机清洗涂布头和涂布槽，造成涂覆生产中断，无法进行连续生产。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，将其用于生产光学薄膜，可以解决光学粒子在涂布槽中易沉积问题，实现连续生产。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。

上述涂布系统，在挡液板下面涂布槽槽底部之间设有涂布液均化装置，涂布液均化装置是一个带有多组旋转叶装置，旋转叶的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个。

上述涂布系统，涂布槽底部可以设置1-3个涂布液均化装置，转数在5-300转/min。

上述涂布系统，旋转叶的角度β在5-80度之间。

上述涂布系统，旋转柱的叶的角度β两边对称。

上述涂布系统，所述均化装置的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。

本实用新型的有益效果为，在单点和多点供料体系中，由于挡液板的阻挡和液槽死角，聚集粒子和大粒径粒子更容易在挡液板后面的死角处沉积，在涂布槽底部设有涂布液均化装置，通过涂布液均化装置中的转动，带动涂布液流动，防止了聚集粒子的沉积，同时旋转叶的转动，也也减少了粒子的聚集的机会，并将送过来的新液和供液槽内老液混合均匀，同时聚集的粒子和大径粒子回流到接液盘，再通过球阀、循环泵输送，过滤器将其中的大部分过滤掉。本实用新型实现了长周期的连续生产，解决了涂覆光学膜存在的质量弊病如拉丝、暗纹、条道、涂布不均等质量问题，也避免了由于涂布液在涂布槽内混合不好造成的条状涂布不均，实现了光学膜的不停机连续生产。

附图说明

图1是本实用新型提供的连续生产光学膜的涂布系统示意图；

图2是本实用新型的涂布液均化装置的示意图。

图中各标号表示为：

1、回液管，2、新液补充管，3、供液桶，4、供液搅拌，5、供液阀门，6、供液泵，7、过滤器，8、供液管，9、涂布液均化装置，10、涂布槽，11、供液孔，12、挡液板，13、涂布辊，14、刮刀，15、接液盘，16、基膜。

具体实施方式

本实用新型包括供料部分和涂布部分，所供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、涂布液均化装置、基膜。在涂布槽的底部挡液板下部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置是一个带有多组旋转叶装置，旋转叶的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个，旋转叶两边对称分布，涂布液进液口在涂布槽中间，通过涂布液均化装置中旋转叶的转动，带动进来的涂布液从中间向两边流动流动，使得涂布液尽快的流动到距进料口更远的两侧，涂布液的流动性加强同时旋转叶的搅动旋转使涂布液中的粒子减少了聚集机会，原来的死角区域变成流动区域，防止了聚集粒子的沉积，解决光学粒子在涂布槽中沉积造成表观不好而停车清理沉积的问题，实现长周期连续生产。

以下结合附图及实施例对实用新型作进一步阐述,但这些实施例仅用于说明本实用新型的工作原理、而不是用于限制本实用新型的保护范围。