[实用新型]可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统有效
申请号: | 201621448021.0 | 申请日: | 2016-12-27 |
公开(公告)号: | CN206631851U | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 姚志刚 | 申请(专利权)人: | 昆山乐凯锦富光电科技有限公司;合肥乐凯科技产业有限公司 |
主分类号: | B05C1/08 | 分类号: | B05C1/08;B05C11/10;B01F7/18 |
代理公司: | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司13108 | 代理人: | 李羡民,郭绍华 |
地址: | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 可防止 粒子 沉积 光学 膜涂布 系统 | ||
1.一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统,包括供料部分和涂布部分,供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管,涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜,其特征是,在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。
2.根据权利要求1所述的涂布系统,其特征在于,在挡液板下面涂布槽槽底部之间设有涂布液均化装置,涂布液均化装置是一个带有多组旋转叶装置,旋转叶的直径在5mm-50mm,总节数在10-100个。
3.根据权利要求2所述的涂布系统,其特征在于,涂布槽底部可以设置1-3个涂布液均化装置,转数在5-300转/min。
4.根据权利要求3所述的涂布系统,其特征在于,旋转叶的角度β在5-80度之间。
5.根据权利要求4所述的涂布系统,其特征在于,旋转叶的角度β两边对称。
6.根据权利要求5所述的涂布系统,其特征在于,所述均化装置的表面粗糙度Ra小于0.05,涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山乐凯锦富光电科技有限公司;合肥乐凯科技产业有限公司,未经昆山乐凯锦富光电科技有限公司;合肥乐凯科技产业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621448021.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:安全型继电器
- 下一篇:一种前盖快速装配装置