[实用新型]可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统有效

专利信息
申请号: 201621448021.0 申请日: 2016-12-27
公开(公告)号: CN206631851U 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 姚志刚 申请(专利权)人: 昆山乐凯锦富光电科技有限公司;合肥乐凯科技产业有限公司
主分类号: B05C1/08 分类号: B05C1/08;B05C11/10;B01F7/18
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司13108 代理人: 李羡民,郭绍华
地址: 215300 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 可防止 粒子 沉积 光学 膜涂布 系统
【权利要求书】:

1.一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统,包括供料部分和涂布部分,供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管,涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜,其特征是,在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。

2.根据权利要求1所述的涂布系统,其特征在于,在挡液板下面涂布槽槽底部之间设有涂布液均化装置,涂布液均化装置是一个带有多组旋转叶装置,旋转叶的直径在5mm-50mm,总节数在10-100个。

3.根据权利要求2所述的涂布系统,其特征在于,涂布槽底部可以设置1-3个涂布液均化装置,转数在5-300转/min。

4.根据权利要求3所述的涂布系统,其特征在于,旋转叶的角度β在5-80度之间。

5.根据权利要求4所述的涂布系统,其特征在于,旋转叶的角度β两边对称。

6.根据权利要求5所述的涂布系统,其特征在于,所述均化装置的表面粗糙度Ra小于0.05,涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山乐凯锦富光电科技有限公司;合肥乐凯科技产业有限公司,未经昆山乐凯锦富光电科技有限公司;合肥乐凯科技产业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621448021.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top