[实用新型]研磨组件有效
| 申请号： | 201621392840.8 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN206277261U | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 谭巧敏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 组件 | ||
1.一种研磨组件，其特征在于，所述研磨组件包括：
基座；
吸附机构，所述吸附机构设置于所述基座的下表面；
研磨环，所述研磨环设置于所述基座的下表面，且设置于所述吸附机构的外围，其中，所述研磨环上设置横向贯穿所述研磨环的通孔。
2.根据权利要求1所述的研磨组件，其特征在于，所述研磨环可拆卸套置于所述吸附机构的外围。
3.根据权利要求1所述的研磨组件，其特征在于，所述研磨环固定设置于所述吸附机构的外围。
4.根据权利要求1所述的研磨组件，其特征在于，所述通孔沿所述研磨环的周向均匀分布。
5.根据权利要求1所述的研磨组件，其特征在于，所述吸附机构呈倒“T”形，包括第一直径部和第二直径部，所述第一直径部与所述基座的下表面相接触，所述第一直径部的直径小于所述第二直径部的直径。
6.根据权利要求5所述的研磨组件，其特征在于，所述通孔设置于所述研磨环与所述吸附机构的所述第一直径部对应的位置。
7.根据权利要求5所述的研磨组件，其特征在于，所述研磨环与所述吸附机构的所述第二直径部具有间隙。
8.根据权利要求7所述的研磨组件，其特征在于，所述间隙的水平距离为1.00mm-1.15mm。
9.根据权利要求1所述的研磨组件，其特征在于，所述研磨组件还设有清洗管，所述清洗管位于所述研磨环外围，且至少所述清洗管的管嘴与所述通孔位于同一平面内。
10.根据权利要求9所述的研磨组件，其特征在于，所述清洗管沿所述研磨环的周向均匀分布。
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