[实用新型]一种刻蚀装置有效
申请号: | 201621370656.3 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN206412322U | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
发明(设计)人: | 周军;党继东;刘东续 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 张海英,林波 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 刻蚀 装置 | ||
1.一种刻蚀装置,包括刻蚀槽(1),其特征在于,所述刻蚀槽(1)的上游设置有上料端(2),所述上料端(2)和所述刻蚀槽(1)的上部设置有用于输送硅片(100)的滚轮组件(3),所述上料端(2)在所述滚轮组件(3)的上方设置有喷淋管(4),所述喷淋管(4)和所述刻蚀槽(1)之间设置有擀液滚轮(5),所述擀液滚轮(5)位于所述滚轮组件(3)的上方。
2.根据权利要求1所述的刻蚀装置,其特征在于,所述刻蚀槽(1)内设置有挡板组件,所述挡板组件将所述刻蚀槽(1)沿水平方向分隔成多个小槽,所述挡板组件包括至少一对溢流挡板(11),每对所述溢流挡板(11)之间均设置有抽风管道(12)。
3.根据权利要求2所述的刻蚀装置,其特征在于,所述抽风管道(12)的侧壁沿其长度方向设置有多个通风孔(121)或者设置有长条状开口(122)。
4.根据权利要求2所述的刻蚀装置,其特征在于,所述滚轮组件(3)包括多个沿水平方向并排间隔设置的滚轮,所述刻蚀槽(1)内每隔两个所述滚轮均设置有一对所述溢流挡板(11),一对所述溢流挡板(11)之间的距离等于相邻的两个所述滚轮之间的距离。
5.根据权利要求4所述的刻蚀装置,其特征在于,所述抽风管道(12)的外径小于相邻的两个所述滚轮之间的距离。
6.根据权利要求1所述的刻蚀装置,其特征在于,所述喷淋管(4)与所述擀液滚轮(5)之间的水平距离为10~30cm。
7.根据权利要求6所述的刻蚀装置,其特征在于,所述喷淋管(4)与所述擀液滚轮(5)之间的水平距离为15cm。
8.根据权利要求1所述的刻蚀装置,其特征在于,所述擀液滚轮(5)为海绵滚轮或硬质滚轮。
9.根据权利要求1所述的刻蚀装置,其特征在于,所述喷淋管(4)设置有至少一个喷头(41),所述喷头(41)沿其长度方向设置有多个喷孔(411)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造