[实用新型]一种单片清洗的单晶硅片清洗装置有效
申请号: | 201621335852.7 | 申请日: | 2016-12-07 |
公开(公告)号: | CN206296236U | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 俞豪威;梁庭卫 | 申请(专利权)人: | 安徽爱森能源有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B11/00 |
代理公司: | 六安众信知识产权代理事务所(普通合伙)34123 | 代理人: | 熊伟 |
地址: | 237200 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单片 清洗 单晶硅 装置 | ||
1.一种单片清洗的单晶硅片清洗装置,包括水槽、清洗架、挡片、水喷头,其特征在于:所述水槽上方设有清洗架,所述清洗架为长条盒形,其底部开设有若干通孔,在清洗架两内侧壁对应均匀设有若干挡片,所述清洗架顶部滑动连接水喷头;所述水喷头为方形,其顶部连接水管。
2.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述的挡片两两之间的间距大于单晶硅片厚度,小于二倍单晶硅片厚度。
3.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述的清洗架两侧壁间距等于单晶硅片宽度。
4.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述的水喷头卡接在清洗架两侧壁上方。
5.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述的清洗架与水槽可拆卸式连接。
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