[实用新型]一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架有效
| 申请号： | 201621292893.2 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN206289317U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 刘军;刘晓峰;张永萍;柴国梁;李改变;朱良琴 | 申请（专利权）人： | 金川集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C25C1/08 | 分类号： | C25C1/08;C25C7/04 |
| 代理公司： | 甘肃省知识产权事务中心62100 | 代理人： | 李琪 |
| 地址： | 737103*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 镍始极片 整体 隔膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架，其特征在于：包括外框架(1)和内框架(2)，所述外框架(1)和内框架(2)为矩形框架结构，内框架(2)顶部开口且其内具有可容纳镍始极片的第一腔室(3)，外框架(1)顶部开口且其内具有可容纳内框架的第二腔室(4)，所述内框架(2)设置于第二腔室(4)内。
2.如权利要求1所述一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架，其特征在于：所述外框架(1)和内框架(2)的架体由栅格(5)组成。
3.如权利要求1所述一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架，其特征在于：所述内框架(2)顶部设置有限位横杆(6)。
4.如权利要求1所述一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架，其特征在于：所述外框架(1)底部设置有支撑腿(7)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金川集团股份有限公司，未经金川集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621292893.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
