[实用新型]一种太阳能薄膜电池

权利要求书

1.一种太阳能薄膜电池，它包括衬底（1）、绝缘阻障层（2）、下电极（3）、吸收层（4）、缓冲层（5）、第一光窗层（6）、第二光窗层（7）、三明治结构上电极（8），其特征在于，所述衬底（1）、绝缘阻障层（2）、下电极（3）、吸收层（4）、缓冲层（5）、第一光窗层（6）、第二光窗层（7）和三明治结构上电极（8）从下到上依次连接。

2.根据权利要求1所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述衬底（1）为不锈钢基板，所述绝缘阻障层（2）为真空溅镀ZnO、SiO2或者TiO2，所述下电极（3）为真空溅镀MoNa/Mo两层结构层，所述吸收层（4）为多阶段蒸镀CIGS吸收层，所述缓冲层（5）为溅镀CdS或者溅镀InS，所述第一光窗层（6）为真空溅镀ZnO或者真空溅镀ZnMgO，所述第二光窗层（7）为真空溅镀AZO、IZO或者ITO，所述第二光窗层（7）为上述三种材质中任意一种或任意两种堆栈，所述三明治结构上电极（8）上从下到外依次为丝印银浆、电镀纯铜层、最后电镀或者化镀金属镍层。

3.根据权利要求2所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述绝缘阻障层（2）中TiO2的厚度为25-200nm、ZnO厚度的为25-200nm、SiO2厚度的为25-200nm。

4.根据权利要求2所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述下电极（3）中MoNa的厚度为50-300nm、Mo的厚度为50-300 nm。

5.根据权利要求2所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述吸收层（4）的厚度为500-3000nm。

6.根据权利要求2所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述缓冲层（5）中溅镀CdS的厚度为25-200nm，折射率为2.2-2.6、溅镀InS的厚度为25-200nm，折射率为2.2-2.5。

7.根据权利要求2所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述第一光窗层（6）中真空溅镀ZnO的厚度为 50-300nm，折射率为2.0-2.1，可见光透光度>85%、真空溅镀ZnMgO的厚度为 50-300nm，折射率为2.0-2.2，可见光透光度>85%。

8.根据权利要求2所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述第二光窗层（7）中真空溅镀ITO的厚度为50-300nm，折射率为1.9-2.1，当真空溅镀ITO的厚度为150nm，电阻率为4x10^-4Ωcm以下，可见光透光性为82％以上、AZO的厚度为150-1000nm，折射率为2.0-2.1，当AZO的厚度为150nm时，电阻率为9x10^-4Ωcm以下，可见光透光性为82％以上、IZO层薄膜厚度为50-350nm，折射率为1.9-2.2，当IZO层薄膜厚度为150nm时，电阻率为5x10^-4Ωcm以下，可见光透光性为82％以上。

9.根据权利要求2所述的一种太阳能薄膜电池，其特征在于，所述三明治结构上电极（8）中丝印银浆的烘干温度<200℃，其厚度为2-15 um，电阻率<8x10^-6Ωcm、电镀纯铜层的厚度为3-25 um，电阻率<4x10^-6Ωcm、电镀或者化镀金属镍层,其厚度为0.1-2.0um。