[实用新型]一种用于柔性电子元件的卷对卷高真空溅镀系统有效
| 申请号： | 201621196623.1 | 申请日： | 2016-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN206127418U | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 黄皓坚;高启仁;胡堂祥 | 申请（专利权）人： | 成都捷翼电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司51200 | 代理人： | 张辉,崔建中 |
| 地址： | 610213 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 柔性 电子元件 真空 系统 | ||
1.一种用于柔性电子元件的卷对卷高真空溅镀系统，其特征在于，左右两边分设进样腔(1)和工艺腔(8)，所述进样腔(1)和工艺腔(8)相连通，在连通之处上方固定有上真空隔绝装置(14)，下方固定有下真空隔绝装置(7)；在进样腔(1)内依次设置有保护膜收料辊(2)、放料辊(3)、保护膜放料辊(4)和收料辊(5)，所述保护膜收料辊(2)和放料辊(3)用于撕开柔性衬底保护膜，所述保护膜放料辊(4)和收料辊(5)用于对溅射后的柔性衬底添加保护膜；在柔性衬底行进流程上设置有若干导向辊(16)；在工艺腔(8)内设置有镀膜辊(9)，并设置有与镀膜辊(9)配套进行溅射工作的直流溅射源(10)、磁控溅射装置(11)和挡板(12)。
2.如权利要求1所述的用于柔性电子元件的卷对卷高真空溅镀系统，其特征在于，在所述工艺腔(8)内还设置有表面处理模组(13)，用于增加柔性衬底对溅镀金属的附着性和去除相对杂质。
3.如权利要求1所述的用于柔性电子元件的卷对卷高真空溅镀系统，其特征在于，在所述进样腔(1)内还设置有加热装置(15)，用于去除柔性衬底水气。
4.如权利要求1或2或3所述的用于柔性电子元件的卷对卷高真空溅镀系统，其特征在于，在进样腔(1)内还设置有纠偏装置(6)，用于调整柔性衬底走位。
5.如权利要求1所述的用于柔性电子元件的卷对卷高真空溅镀系统，其特征在于，上真空隔绝装置(14)和下真空隔绝装置(7)为橡胶类高分子材料或者金属材料，所述上真空隔绝装置(14)和下真空隔绝装置(7)的真空隔离范围为：高真空1×10-3～1×10-6mbar，低真空1×103mbar以上。
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