[实用新型]光罩检测装置有效
| 申请号: | 201621167956.1 | 申请日: | 2016-11-02 |
| 公开(公告)号: | CN206292523U | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
| 发明(设计)人: | 张志强 | 申请(专利权)人: | 艾斯迈科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84 |
| 代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙)31249 | 代理人: | 朱成之,苗绘 |
| 地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 检测 装置 | ||
1.一种光罩检测装置,其特征在于,包含:
检测基座,其一面上设有支架;
沿所述检测基座作第一方向位移的移动平台,其设于所述检测基座的一面上,且位于所述检测基座及所述支架之间;
沿所述移动平台作与所述第一方向垂直的第二方向位移的转动平台,其设于所述移动平台之上;
承载平台,其设于所述转动平台的一面上,所述承载平台承载光罩,所述光罩包含基板、框架及防尘膜,所述框架设于所述基板的一面上,所述防尘膜设于所述框架上;
对应所述防尘膜的其中一个检测区域产生测距信号的激光测距模块,其设于所述支架的一侧;
垂直位移模块,其设于所述支架的一侧;
根据所述测距信号控制所述垂直位移模块升降的处理模块,其连结所述激光测距模块及所述垂直位移模块;以及
于所述垂直位移模块升降后,采集由所述激光测距模块所测量的所述检测区域的检测影像的影像采集模块,其连结所述处理模块,且相邻所述激光测距模块并设置于所述垂直位移模块上;
其中,当所述影像采集模块采集其中一个所述检测区域的所述检测影像后,所述移动平台将下一个所述检测区域移至对应所述激光测距模块及所述影像采集模块的位置,以产生下一个所述检测区域的所述测距信号及所述检测影像,所述处理模块根据多个所述测距信号产生防尘膜高度信息,且根据各所述检测影像产生检测信息。
2.如权利要求1所述的光罩检测装置,其特征在于,所述移动平台包含所述转动平台沿着位移的导轨。
3.如权利要求1所述的光罩检测装置,其特征在于,所述检测信息包含微粒位置、微粒尺寸或其组合。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





