[实用新型]表面处理工艺系统、搬运单元及其载台结构有效
申请号: | 201621163514.X | 申请日: | 2016-10-25 |
公开(公告)号: | CN206259325U | 公开(公告)日: | 2017-06-16 |
发明(设计)人: | 丁万春 | 申请(专利权)人: | 通富微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/677;C23C14/56 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 226001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 工艺 系统 搬运 单元 及其 结构 | ||
1.一种用于面板级扇出表面处理工艺过程的载台结构,其特征在于,所述载台结构包括用于承载并固定面板级扇出的载台底座以及盖设于所述载台底座上表面的至少两个遮挡单元;相邻遮挡单元之间活动连接,通过调节所述遮挡单元的位置,进而改变所述遮挡单元对所述载台底座上表面的遮挡位置和遮挡面积,以使所述载台底座上表面非遮挡区域与面板级扇出的面积相适应。
2.根据权利要求1所述的载台结构,其特征在于,每一所述遮挡单元均包括一支撑杆以及与所述支撑杆连接的遮挡板,相邻支撑杆之间活动连接,通过调节所述支撑杆的位置,带动所述遮挡板延展或者收缩,以实现对所述载台底座上表面的遮挡位置和/或遮挡面积的变化。
3.根据权利要求2所述的载台结构,其特征在于,所述遮挡单元的数量为两个,两遮挡单元的支撑杆之间以及支撑杆与载台底座上相邻固定杆之间通过滑动轨道连接。
4.根据权利要求2所述的载台结构,其特征在于,所述遮挡单元的数量为三个,相邻遮挡单元的支撑杆之间以及支撑杆与载台底座上相邻固定杆之间通过滑动轨道连接。
5.根据权利要求2所述的载台结构,其特征在于,所述遮挡单元的数量为四个,相邻遮挡单元的支撑杆之间通过滑动轨道连接。
6.根据权利要求2-5任一项所述的载台结构,其特征在于,所述遮挡板为软质材料制成,在收缩状态时,卷设在所述支撑杆上或者卷设在所述载台底座侧边的转轴上。
7.根据权利要求2-5任一项所述的载台结构,其特征在于,所述载台结构还包括驱动电机,所述驱动电机用于带动所述支撑杆移动。
8.根据权利要求1所述的载台结构,其特征在于,所述载台底座上表面设有多个安装孔,所述安装孔用于通过与固定件配合实现对面板级扇出的固定安装。
9.一种用于面板级扇出表面处理工艺过程中的搬运单元,其特征在于,所述搬运单元包括传输机构以及权利要求1-8任一项所述的载台结构,所述载台结构用于承载并固定面板级扇出,所述传输机构用于在不同工位之间转移所述载台结构。
10.一种用于面板级扇出表面处理的工艺系统,其特征在于,所述工艺系统包括权利要求9所述的搬运单元,所述搬运单元用于对面板级扇出进行承载、固定以及转移。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造