[实用新型]一种烧制陶瓷的上釉装置

权利要求书

1.一种烧制陶瓷的上釉装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)包括上釉池(12)、搅拌装置(13)、支撑杆(2)、减振台(14)，所述底座(1)的右上方安装有上釉池(12)，所述上釉池(12)的内部安装有搅拌装置(13)；所述底座(1)的左上方安装有支撑杆(2)；所述底座(1)下方的两侧均安装有减振台(14)，所述减振台(14)的内部安装有弹簧(15)；

所述支撑杆(2)包括减速机(3)、转头(4)、连接板(6)、转头减速机(7)、电机(8)、转动轴(9)，所述支撑杆(2)的左上方连接有减速机(3)；所述支撑杆(2)的右上方安装有转头(4)，所述转头(4)的下方安装有皮带(5)，所述转头(4)的下方与转动轴(9)相连接，所述皮带(5)的下方安装有连接板(6)，所述连接板(6)的下方两侧分别安装有转头减速机(7)与电机(8)，且所述转头减速机(7)安装在电机(8)的右侧，所述电机(8)的下方安装有转动轴(9)；

所述转动轴(9)包括碗坯(10)、吸盘口(11)，所述转动轴(9)的下方安装有碗坯(10)，所述碗坯(10)的下方安装有吸盘口(11)。

2.根据权利要求1所述的一种烧制陶瓷的上釉装置，其特征在于：所述支撑杆(2)的高度在1-1.1米。

3.根据权利要求1所述的一种烧制陶瓷的上釉装置，其特征在于：所述减速机(3)的型号是WB65型减速机。

4.根据权利要求1所述的一种烧制陶瓷的上釉装置，其特征在于：所述转动轴(9)采用碳素材质。

5.根据权利要求1所述的一种烧制陶瓷的上釉装置，其特征在于：所述吸盘口(11)的形状为半球形。

6.根据权利要求1所述的一种烧制陶瓷的上釉装置，其特征在于：所述上釉池(12)的内部填充有乳浊釉。