[实用新型]纹影系统的支撑调节装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种气动光学领域和自动化控制领域中的调节装置，特别是涉及一种基于PLC控制的大口径纹影系统的支撑调节装置。

背景技术

纹影仪是一种应用于流场显示和测量的光学仪器，其用于显示透明物质中种种原因引起的折射率变化，目前被广泛地应用于观测气流的边界层、燃烧、激波、气体内的冷热对流及风洞和水洞流场等。传统纹影仪支撑机构采取手轮转动的方式进行高度及平移调节，该调节方式精度低，调试效率差，不具有俯仰、偏转调节，无法满足目前纹影仪调试要求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种提高纹影系统调节精度的支撑调节装置。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是：纹影系统的支撑调节装置，包括支撑底座、升降机构、平板、支撑横梁、位移补偿滑块、偏转机构和控制系统，所述平板设置在支撑横梁上，所述偏转机构和位移补偿滑块设置在支撑横梁上，所述支撑横梁设置在升降机构上，所述升降机构垂直设置于支撑底座的上表面上，所述控制系统控制升降机构和偏转机构的运动。

进一步的，还包括行走机构，所述行走机构设置在支撑底座的下表面上，所述控制系统控制行走机构的运动。

进一步的，所述行走机构由行走电机、传动机构、驱动轴、驱动轮和轴承座构成，所述行走电机安装在支撑底座上，所述驱动轴与驱动轮通过轴承座与支撑底座固定在一起。

进一步的，所述升降机构采用2个以上的偶数个，且都垂直设置于支撑底座的上表面上。

进一步的，所述升降机构是4个，且垂直设置于支撑底座上表面的四个角上，且每个支撑横梁都设置在前后(或左右)两个升降机构上。

进一步的，所述升降机构由电机、联轴器、立柱、导轨、丝杆和滑块构成，所述电机设置在立柱上并与联轴器连接，所述联轴器与丝杆连接，所述滑块设置在丝杆上并可沿着导轨上下移动，所述支撑横梁与滑块滚动连接。

进一步的，所述电机的电机轴端安装有位置编码器。

进一步的，所述偏转机构由偏转电机、偏转联轴器、偏转导轨、偏转丝杆、偏转滑块、偏转轴、刻度尺和限位机构构成，所述偏转电机设置在支撑横梁上并与偏转联轴器连接，所述偏转联轴器与偏转丝杆连接，所述偏转滑块设置在偏转丝杆上并可沿着偏转导轨移动，所述限位机构和刻度尺安装在支撑横梁上，所述偏转轴安装在支撑横梁上并位于相对于偏转电机的另外一侧，所述偏转滑块与支撑横梁滚动连接。

进一步的，所述偏转轴的轴端安装有角度位置编码器。

进一步的，所述滚动连接采用轴承连接。

本实用新型的有益效果是：由于本实用新型的支撑调节机构可实现平移、升降、偏转、俯仰和水平调节，可以满足纹影系统的高精度调试要求；本实用新型采用电机控制丝杆的调节方式，调节精度高，全程调节控制都通过控制系统操作完成，提高调试效率，减少调试人员，方便且提高工作效率。

附图说明

图1是本实用新型的立体图。

图2是本实用新型另一方向的立体图。

图3是本实用新型的主视图。

图4是图3的俯视图。

图5是图3的侧视图。

图6是本实用新型的控制框图。

图7是本实用新型的偏转机构的结构示意图。

图8是本实用新型的行走机构的结构示意图。

具体实施方式

本实用新型的基于PLC控制的纹影系统的支撑调节装置包括行走机构1、支撑底座2、升降机构3、平板4、支撑横梁5、位移补偿滑块7、偏转机构8和控制系统10，其中，平板4设置在支撑横梁5上，多个行走机构1设置在支撑底座2的下表面上，偏转机构8和位移补偿滑块7设置在支撑横梁5上，升降机构3采用2个以上的偶数个，且都垂直设置于支撑底座2上表面上，升降机构3最好是4个，且垂直设置于支撑底座2上表面的四个角上，支撑横梁5设置在升降机构3上，且每个支撑横梁5最好都设置在前后(或左右)两个升降机构3上，如果是采用4个升降机构3，那么支撑横梁5就是两个，并都分别设置在前后(或左右)两个升降机构3上，如图1-5所示。

本实用新型由控制系统10控制行走机构1实现平移调节；控制系统10控制升降机构3并同时与位移补偿滑块7配合实现升降调节、俯仰调节和水平调节；控制系统10控制偏转机构8并同时与位移补偿滑块7配合实现偏转调节，如图6所示。