[实用新型]一种自清洗质谱装置和质谱仪有效
申请号: | 201621061258.3 | 申请日: | 2016-09-18 |
公开(公告)号: | CN206425303U | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 吴先伟;官培龙;吴峰 | 申请(专利权)人: | 江苏可力色质医疗器械有限公司;上海可力梅塔生物医药科技有限公司;上海爱可赛默医疗器械有限公司;广州可力质谱医疗器械有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;H01J37/32;H01J49/10;H01J49/26 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司31266 | 代理人: | 马莉华,刘妍珺 |
地址: | 225300 江苏省泰州市中国医药城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 装置 质谱仪 | ||
技术领域
本实用新型属于化学分析仪器领域,具体地,涉及一种自清洗质谱装置以及质谱仪。
背景技术
具有大气压离子源的质谱仪目前已经得到广泛应用,无论是与液相色谱联用,还是单独使用,质谱仪器在各种检测领域发挥着重要作用。对于一些检测领域,样品由于前处理的时效和成本问题,往往含有大量未完全净化的基质,例如环境中土壤、动植物体基质、血液中未净化完全的蛋白和脂类等基质,这些基质不仅会产生大量背景信号,同时也会污染质谱离子源和传输系统。随着质谱连续使用时间的增加,质谱离子源和传输系统被复杂基质污染的情况越来越严重,需要对其进行清洗和维护。目前常用的清洗方法是将受污染器件进行拆除后,用有机溶剂进行流动清洗,必要时需要拆下污染器件进行超声清洗。这种清洗维护方式均需要用到有机溶剂,且拆除过程繁琐。
本实用新型改变现有的离子源的结构,在其内部增加一个电极,并在电极上施加高频射频电压,使用真空泵将离子源和传输系统内部抽成具有一定真空度的真空,在离子源和传输系统内部通入无机气体,通过辉光放电产生的等离子体对离子源和传输系统进行清洗,等离子体可与污染物发生物理和化学的作用,完成对污染物与所覆基体的分离。本实用新型的清洗方式不用拆除任何器件,且清洗效果好于常规的溶剂清洗或超声清洗。
发明内容
本实用新型的第一方面提供了一种自清洗质谱装置,所述装置包括离子化腔室和传输腔室,其中,所述离子化腔室包括离子化腔室壁,和由所述离子化腔室壁界定的内腔;
所述的离子化腔室壁上设有清洗气体入口、清洗气体出口、离子源LC第一接口、和用于连通所述传输腔室的第二接口;
所述清洗气体入口和离子源LC第一接口为同一个口,或者所述清洗气体入口和离子源LC第一接口不为同一个口;
所述清洗气体出口通过管道与真空泵相连,并且所述管道上设有一二通电磁阀;
并且由所述离子化腔室壁界定的内腔中设有一平板金属电极,所述平板金属电极与射频电路相连,用于产生射频电压。
在另一优选例中,所述的清洗气体为无机气体。
在另一优选例中,所述的无机气体可以通过辉光放电产生等离子态气体,并且所述的等离子体与所述离子化腔室和传输腔室内的污染物发生物理和化学作用。
在另一优选例中,所述的真空泵用于抽出所述离子化腔室和传输腔室内的等离子态的气体和清洗后的污染物。
在另一优选例中,所述的传输腔室通过管道与真空泵相连。
在另一优选例中,所述平板金属电极正对用于连通所述传输腔室的第二接口。
在另一优选例中,所述平板金属电极与所述的自清洗质谱装置的其它金属部分处于绝缘隔离状态。
本实用新型的第二方面提供了一种质谱仪,所述质谱仪包括如本实用新型第一方面所述的自清洗质谱装置。
本实用新型的第三方面提供了一种实时自动清洗质谱离子源和传输系统的方法,包括步骤:
(a)提供一种如本实用新型第二方面所述的质谱仪;
(b)所述质谱仪停止工作,开启真空泵,并打开电磁阀打开,离子化腔室和传输腔室内部抽真空;
(c)通过LC接口通入无机气体,打开射频电路,从而产生射频电压;
(d)无机气体发生辉光放电,生成等离子体态;
(e)离子化腔室和传输腔室内部等离子态的气体与部件表面的污染物发生物理和化学作用;
(f)关闭射频电源,打开离子化腔室与真空泵连通处的电磁阀,抽出等离子态的气体和清洗后的污染物。
在另一优选例中,所述方法步骤(b)中,离子化腔室和传输系统真空度为 80-120Pa。
在另一优选例中,所述无机气体为氮气或者氩气,较佳地,为氮气。
在另一优选例中,所述方法步骤(c)中,射频电压大小范围为8-20MHz,较佳地为13.56MHz,功率在30-200W之间可调。
应理解,在本实用新型范围内中,本实用新型的上述各技术特征和在下文 (如实施例)中具体描述的各技术特征之间都可以互相组合,从而构成新的或优选的技术方案。限于篇幅,在此不再一一累述。
附图说明
图1为质谱离子源结构示意图。
上述附图中各部件名称与部件名称对应关系如下:
1-离子化腔室
2-离子化腔室
3-平板金属电极
4-离子源LC接口部分连接气路
5-二通电磁阀
6-真空泵
具体实施方式
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