[实用新型]一种腐殖质还原菌的厌氧培养装置

权利要求书

1.一种腐殖质还原菌的厌氧培养装置，包括反应器、自动液位控制装置、布水管和除氧池；其特征在于，所述反应器设置有反应器Ⅰ区、反应器Ⅱ区和反应器Ⅲ区；

反应器Ⅰ区的顶部设置有单向气体导出装置(8)和活性污泥补入口(9)，反应器Ⅰ区的侧面设置有培养液补入口A(10)、自动液位控制装置A(11)和阀门A(12)，阀门A(12)的出口端设置有固液分离器A(13)，固液分离器A(13)分别与反应器Ⅱ区与曝气池(19)相连通；

反应器Ⅱ区的一侧设置有培养液补入口B(14)、自动液位控制装置B(15)和阀门B(16)，阀门B(16)的出口端设置有固液分离器B(17)，固液分离器B(17)分别与反应器Ⅲ区与曝气池(19)相连通；

反应器Ⅱ区的另一侧设置有除氧池(3)，除氧池(3)通过离心泵(4)与曝气池(19)相连通；除氧池(3)的顶部设置有除氧剂补充口(1)和自动液位控制装置(2)，除氧池(3)通过多向阀门(6)与设置在反应器Ⅱ区的布水管A(5)和设置在反应器Ⅲ区的布水管B(7)相连通；

反应器Ⅲ区的一侧设置有自动液位控制装置C(18)；反应器Ⅲ区的底部设置有吸附区(21)，吸附区(21)通过阀门(20)与反应器Ⅲ区相连通；吸附区(21)的一侧设置有排料口(22)，吸附区(21)的底部设置有超滤膜(23)；吸附区(21)内超滤膜(23)的上方还设置有吸附载体，该吸附载体为膨润土。

2.根据权利要求1所述的一种腐殖质还原菌的厌氧培养装置，其特征在于，所述反应器Ⅰ区、反应器Ⅱ区、反应器Ⅲ区的有效容积分别为0.2、0.2、0.4m³。

3.根据权利要求1所述的一种腐殖质还原菌的厌氧培养装置，其特征在于，所述反应器Ⅰ区、反应器Ⅱ区的区域底部隔板的坡度均为3％～5％。

4.根据权利要求1所述的一种腐殖质还原菌的厌氧培养装置，其特征在于，所述除氧池(3)、曝气池(19)有效容积均为0.2m³，吸附区(21)有效容积为0.4m³。

5.根据权利要求1所述的一种腐殖质还原菌的厌氧培养装置，其特征在于，所述布水管A(5)、布水管B(7)均为下方单侧水平方向开孔，开孔直径为50mm，数量为20。