[实用新型]一种真空镀膜设备的新型真空腔体隔离装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备的配件，尤其涉及一种真空镀膜设备的新型真空腔体隔离装置。

背景技术

传统的真空镀膜设备可以根据其镀膜工艺的不同要求，在真空腔体内选择设置或不设置挡板，若没有挡板时，钛靶附近则易于沉积碳的涂层，随着镀膜时间的不断增加，其表面受到污染的可能性就越来越大，从而影响涂层的结合力。真空腔体越小，受到污染的机会就越大。

实用新型内容

本实用新型是为了解决上述不足，提供了一种真空镀膜设备的新型真空腔体隔离装置。

本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现：一种真空镀膜设备的新型真空腔体隔离装置，包括真空腔体，所述真空腔体内设有导轨和齿条，齿条通过滑轮组件连接在导轨上，所述导轨两端分别设有“开”位置止动器和“关”位置止动器；所述齿条固定有隔离挡板；所述隔离挡板分为上下两段，下段需定期喷砂处理，上下段通过3个不锈钢螺丝连接，便于拆卸与安装。

所述真空腔体顶部设有马达，所述马达连接设置在真空腔体内部的传动齿轮，传动齿轮与齿条啮合；

所述马达两侧分别设有“开”位置传感器和“关”位置传感器，“开”位置传感器和“关”位置传感器通过电线分别连接“开”指示灯和“关”指示灯，“开”指示灯和“关”指示灯设置在设备控制柜面板上。

所述真空腔体为圆筒状，导轨和齿条均呈弧形。

本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型的真空镀膜设备的新型真空腔体隔离装置结构简单，易于维护，工作性能稳定，较大幅度提高了镀膜产品的质量。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型中真空腔体的内部结构示意图。

图3是本实用新型中真空腔体的顶部结构示意图。

图4是本实用新型中导轨、齿条和隔离挡板的连接结构示意图一。

图5是本实用新型中导轨、齿条和隔离挡板的连接结构示意图二。

图6是图5中A处的局部放大图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进一步详述。

如图1至图6所示，一种真空镀膜设备的新型真空腔体隔离装置，包括真空腔体1，所述真空腔体1内设有导轨2和齿条6，齿条6通过滑轮组件5连接在导轨2上，所述导轨2两端分别设有“开”位置止动器3和“关”位置止动器4；所述齿条6固定有隔离挡板7；所述隔离挡板7分为上下两段，下段需定期喷砂处理，上下段通过3个不锈钢螺丝15连接，便于拆卸与安装。

所述真空腔体1顶部设有马达8，所述马达8连接设置在真空腔体1内部的传动齿轮9，传动齿轮9与齿条6啮合；

所述马达8两侧分别设有“开”位置传感器10和“关”位置传感器11，“开”位置传感器10和“关”位置传感器11通过电线12分别连接“开”指示灯13和“关”指示灯14，“开”指示灯13和“关”指示灯14设置在设备控制柜面板上。

所述真空腔体1为圆筒状，导轨2和齿条6均呈弧形。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。