[实用新型]一种新型化学机械抛光装置

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造中的化学机械抛光，特别是涉及一种新型化学机械抛光装置。

背景技术

化学机械抛光工艺是一种平坦化工艺，目前广泛应用于浅沟槽隔离结构平坦化、多晶硅平坦化、栅电极平坦化、钨塞平坦化和铜互连平坦化等工艺中，还被应用与基底表面上的其他薄膜层的抛光，现有的化学机械抛光装置对晶圆进行研磨时，所研磨的晶圆的表面平整度不易控制，研磨的效果不良，加之抛光时抛光的速度和力度把握不好的情况下，往往会造成过多的过抛。

实用新型内容

基于此，有必要针对现有技术问题，提供一种基于激光定位技术的全自动洗车机。

为解决现有技术问题，本实用新型公开了一种新型化学机械抛光装置，包括抛光头、研磨垫、转轴、传动轮，所述研磨垫紧贴换向轮布置并由所述传动轮传动，所述抛光头位于研磨垫上方，一侧与所述转轴连接，另一侧安装有研磨头，所述转轴上端与第一电动机输出轴连接，所述第一电动机固定在滑块装置上，所述滑块装置与丝杠之间靠螺旋副连接，所述丝杠的一侧终端与第二电动机输出轴连接，所述第二电动机下面安装有喷液臂，所述喷液臂与固定在地面上的底座连接，所述喷液臂的另一侧安装有喷液头，所述丝杠的两端连接有支撑座，所述支撑座与竖直气缸连接。

作为本实用新型的优选方案，所述传动轮一侧安装有研磨垫张紧装置，所述张紧装置与张紧轮连接，所述张紧轮与研磨垫紧贴在一起。

作为本实用新型的优选方案，所述研磨垫为连续的带状研磨垫，上表面具有均匀分布的圆形凸点。

作为本实用新型的优选方案，所述喷液臂与喷液头之间安装有节流阀。

作为本实用新型的优选方案，所述的第二电动机与支撑座连接在一起，并随所述的竖直气缸的升降而上下运动。

作为本实用新型的优选方案，所述传动轮与换向轮均有两个，两个传动轮与两个换向轮均等高布置。

本实用新型的有益效果在于：竖直气缸的连接可调节研磨头与研磨垫之间的压力，可适应不同的研磨要求。

附图说明

图1为本实用新型一种新型化学机械抛光装置的结构示意图。

图2为本实用新型一种新型化学机械抛光装置中研磨垫结构图；

附图标记说明如下：

1、转轴；2、抛光头；3、研磨头；4、研磨垫；5、换向轮；6、张紧装置；7、张紧轮；8、换向轮；9、底座；10、喷液臂；11、节流阀；12、喷液头；13、第二电动机；14、滑块装置；15、第一电动机；16、丝杠；17、竖直气缸；18、支撑座；19、圆形凸点。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳的实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1所示，一种新型化学机械抛光装置，包括抛光头2、研磨垫4、转轴1、传动轮8，所述研磨垫4紧贴换向轮5布置并由所述传动轮8传动，所述抛光头2位于研磨垫4上方，一侧与所述转轴1连接，另一侧安装有研磨头3，所述转轴1上端与第一电动机15输出轴连接，所述第一电动机15固定在滑块装置15上，所述滑块装置15与丝杠16之间靠螺旋副连接，所述丝杠16的一侧终端与第二电动机13输出轴连接，所述第二电动机13下面安装有喷液臂10，所述喷液臂10与固定在地面上的底座9连接，所述喷液臂10的另一侧安装有喷液头12，所述丝杠16的两端连接有支撑座18，所述支撑座18与竖直气缸17连接。