[发明专利]一种OLED结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201611256318.1 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN108269942B 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 肖德元 申请(专利权)人: 上海新昇半导体科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;B82Y30/00
代理公司: 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) 代理人: 刘星<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 201306上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 碳纳米管阵列 有机电致发光单元 阳极电极层 阴极电极层 基板 发光效率 金属阴极 制造成本 制作工艺 低电压 钝化层 制作 兼容
【权利要求书】:

1.一种OLED结构,其特征在于,包括:

基板;

形成于所述基板上的阳极电极层,所述阳极电极层包括P型碳纳米管阵列;

形成于所述阳极电极层上的有机电致发光单元;

形成于所述有机电致发光单元上的阴极电极层,所述阴极电极层包括N型碳纳米管阵列;

形成于所述阴极电极层上的钝化层;

其中,所述P型碳纳米管阵列包括若干平行排列的P型碳纳米管单元;所述N型碳纳米管阵列包括若干平行排列的N型碳纳米管单元,且所述P型碳纳米管单元与所述N型碳纳米管单元的排列方向呈预设角度α,0°<α<180°,所述P型碳纳米管单元为单根P型碳纳米管,或为P型碳纳米管束;所述N型碳纳米管单元为单根N型碳纳米管,或为N型碳纳米管束。

2.根据权利要求1所述的OLED结构,其特征在于:所述有机电致发光单元自下而上依次包括有机空穴传输层、有机发光层及有机电子传输层,其中,所述有机空穴传输层与所述P型碳纳米管阵列接触,所述有机电子传输层与所述N型碳纳米管阵列接触。

3.根据权利要求1所述的OLED结构,其特征在于:所述基板与所述阳极电极层之间形成有一绝缘层。

4.根据权利要求3所述的OLED结构,其特征在于:所述绝缘层的材料包括氧化硅。

5.一种OLED结构的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1:提供一基板,在所述基板上形成一绝缘层;

S2:在所述绝缘层上形成P型碳纳米管阵列;

S3:在所述P型碳纳米管阵列上形成有机电致发光单元;

S4:在所述有机电致发光单元上形成N型碳纳米管阵列;

S5:在所述N型碳纳米管阵列上形成钝化层;

其中,所述P型碳纳米管阵列包括若干平行排列的P型碳纳米管单元;所述N型碳纳米管阵列包括若干平行排列的N型碳纳米管单元,且所述P型碳纳米管单元与所述N型碳纳米管单元的排列方向呈预设角度α,0°<α<180°,所述P型碳纳米管单元为单根P型碳纳米管,或为P型碳纳米管束;所述N型碳纳米管单元为单根N型碳纳米管,或为N型碳纳米管束。

6.根据权利要求5所述的OLED结构的制作方法,其特征在于:于所述步骤S2中,首先在所述绝缘层上形成图案化的碳纳米管催化剂图案,然后基于所述碳纳米管催化剂图案在所述绝缘层上形成P型碳纳米管阵列。

7.根据权利要求5所述的OLED结构的制作方法,其特征在于:于所述步骤S4中,首先在所述有机电致发光单元上形成图案化的碳纳米管催化剂图案,然后基于所述碳纳米管催化剂图案在所述有机电致发光单元上形成N型碳纳米管阵列。

8.根据权利要求5所述的OLED结构的制作方法,其特征在于:所述有机电致发光单元自下而上依次包括有机空穴传输层、有机发光层及有机电子传输层。

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