[发明专利]一种可改善堵孔的背钻方法在审

专利信息
申请号: 201611205048.1 申请日: 2016-12-23
公开(公告)号: CN106793509A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 陈志新;王孔祥;贺文辉 申请(专利权)人: 奥士康科技股份有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 深圳市兴科达知识产权代理有限公司44260 代理人: 王翀
地址: 413000 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种可改善堵孔的背钻方法。

背景技术

随着印制电路板高速发展,含背钻设计的PCB开始增加,对背钻产品深度要求也日益增加,而解决PCB小孔背钻堵孔的问题迫在眉睫。

目前为解决背钻堵孔主要有两种方法:一是图形电镀后背钻,再碱性蚀刻流程。二是为分两次电镀解决,第一次电镀后(一般镀层≤10um)背钻,背钻完成后再镀铜,达到要求铜厚。现有些客户的板因某些原因必须蚀刻图形后背钻,此两种工艺流程就无法可施了。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,针对现有技术的不足,尤其是必须蚀刻后再背钻的板,提供一种可改善堵孔的背钻方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种可改善堵孔的背钻方法,包括以下步骤:

第1步:先钻通孔;

第2步:钻完通孔后机台不下板,将已用完的铝片去除,重新盖上铝片,同时再盖冷冲板;盖冷冲板目的是清洁钻咀同时防止铝片被吸起,影响机器感应器判断错误,导致钻孔深度有误;

第3步:用比通孔钻咀单边大0.025mm的钻咀钻背钻孔,目的是对背钻孔扩孔,以去除背钻孔内多余孔壁;

第4步:待该PCB板完成背钻预钻孔后,进行正常工艺流程:沉铜、全板电镀镀铜,图形转移、蚀刻、阻焊,根据客户要求,可在蚀刻后,或阻焊后实施常规背钻;

第5步:对需要进行背钻的孔按常规进行背钻;

第6步:水洗,以去除背钻孔孔内残留钻屑;

第7步:按正常流程往下做板即可。

进一步,第5步,为保证孔位精度,钻背钻孔时使用的定位孔与象限,与钻通孔时是相同的。

进一步,第5步,常规背钻比通孔钻咀单边大0.1mm。

本发明为改善背钻孔堵孔,在钻完通孔后机台不下板,重新换上铝片与冷冲板后,再用比通孔钻咀单边大0.025mm钻咀扩孔,以去除部分多余孔壁。目的是为后续正常做背钻时,钻咀排屑提供更多空间和便利条件,相比于以往常规不扩孔直接钻背钻孔,改善效果非常明显。

本发明同时为保证孔位精准度,钻通孔后机台不下板,换铝片与冷冲板后对背钻孔扩孔。同时保证正常背钻时使用的定位孔与象限,与钻通孔时相同。

具体实施方式

以下结合实施例对本发明作进一步说明。

实施例

一种可改善堵孔的背钻方法,包括以下步骤:

第1步:先钻通孔;

第2步:钻完通孔后机台不下板,将已用完的铝片去除,重新盖上铝片,同时再盖冷冲板;盖冷冲板目的是清洁钻咀同时防止铝片被吸起,影响机器感应器判断错误,导致钻孔深度有误;

第3步:用比通孔钻咀单边大0.025mm的钻咀钻背钻孔,目的是对背钻孔扩孔,以去除背钻孔内多余孔壁;

第4步:待该PCB板完成背钻预钻孔后,进行正常工艺流程:沉铜、全板电镀镀铜,图形转移、蚀刻、阻焊,根据客户要求,可在蚀刻后,或阻焊后实施常规背钻;

第5步:对需要进行背钻的孔按常规进行背钻,为保证孔位精度,钻背钻孔时使用的定位孔与象限,与钻通孔时是相同的,常规背钻比通孔钻咀单边大0.1mm;

第6步:水洗,以去除背钻孔孔内残留钻屑;

第7步:按正常流程往下做板即可。

本发明为改善背钻孔堵孔,在钻完通孔后机台不下板,重新换上铝片与冷冲板后,再用比通孔钻咀单边大0.025mm钻咀扩孔,以去除部分多余孔壁。目的是为后续正常做背钻时,钻咀排屑提供更多空间和便利条件,相比于以往常规不扩孔直接钻背钻孔,改善效果非常明显。

本发明同时为保证孔位精准度,钻通孔后机台不下板,换铝片与冷冲板后对背钻孔扩孔。同时保证正常背钻时使用的定位孔与象限,与钻通孔时相同。本发明操作简单,利用本发明,能有效改善蚀刻后背钻有堵孔问题,可更好地管控品质。

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