[发明专利]一种纳米银线光阻剂及其在触摸屏器件制造中的应用

说明书

本发明公开了一种纳米银线光阻剂，由重量份计的以下原料制备而成：纳米银线1‑60份、分散剂1‑20份、分散树脂1‑10份、显影树脂3‑40份、光固化树脂4‑40份、光引发剂0.25‑5份、助剂0.1‑1份和有机溶剂3000‑80000份。本发明还公开了该纳米银线光阻剂在触摸屏器件制造中的应用，包括在彩色滤光片上制造On‑Cell或In‑cell式触摸器件，制造Micro‑LED上的显示触摸器件透明阳极。采用该纳米银线光阻剂通过UV光刻及显影等黄光工艺，直接在基片上制作出各式图型电极而无需镀膜蚀刻工艺，且导电性能明显优于ITO。

技术领域

本发明涉及光阻剂，尤其涉及一种纳米银线光阻剂及其在触摸屏器件制造中的应用。

背景技术

触摸显示屏是以智能手机为代表的各类智能显示终端最重要的器件之一，与芯片、主板合称为三大硬件。触摸显示屏是实现人机交互，多媒体信息传递的终端硬件。

传统电容屏分为Flim结构和Glass结构两大类。在溅镀ITO之后需要经过多道黄光制程工艺反复刻蚀和蚀刻，对材料要求耐热耐化学及物理性能；此外，在制作导线前，要在ITO上进行制作“搭桥”式绝缘层(即绝缘桥)，除要求像保护层的性能还必须能够光刻显影成图形。

此外，ITO的电阻高于150欧姆/方块电阻，对于制作中大尺寸的触摸屏来说触控效果不够灵敏。

另外在Film上，可以涂布水基纳米银线浆料加激光微雕法制造图型。但是，这个方法有些不适合大规模整体制作，生产效率低下；有些制程例如激光设备工艺费用昂贵，导致成本高昂无法与黄光制程竞争。

为了解决这些问题，有方法提出金属网格，但是，金属网格的电阻率也很难达到大尺寸触控要求，同时制造良率不高。也有不断改进纳米银线浆料和激光设备工艺的，但是不能解决精确图型化的要求。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种纳米银线光阻剂，该光阻剂具有良好的流动性和高的光透过率，并且粘度低、涂布性能好，在制作触摸与显示器件时，可以替代ITO制作各类透明电极，尤其在柔性触摸显示方面克服了ITO不耐弯曲的缺点。

本发明的目的之二在于提供一种分散树脂的制备方法，通过该方法获得这种可用于纳米银线浆的分散润湿过程中起到辅助超分散剂溶剂化链稳定性的树脂。

本发明的目的之三在于提供一种纳米银线光阻剂在触摸屏器件制造中的应用。

本发明的目的之一采用以下技术方案实现：

一种纳米银线光阻剂，其特征是，由重量份计的以下原料制备而成：纳米银线1-60份、分散剂1-20份、分散树脂1-10份、显影树脂3-40份、光固化树脂4-40份、光引发剂0.25-5份、助剂0.1-1份和有机溶剂3000-80000份。

所述纳米银线的平均线径宽度D₅₀为10-30nm，线平均长度D₅₀为3-40um。纳米银线的制备方法是采用化学法制作加工，例如：硝酸银催化剂还原法制备的纳米银线，再经过溶剂置换外加分散剂预处理，之后加入本发明所述之通式(1)结构的分散树脂，以稳定纳米银线所在溶液当中的分散稳定性。为了使纳米银线在100℃温度烘干后形成的单层透明网状搭接薄膜表面的电阻率在100-100000mΩ/cm²范围内，其所在分散液当中的固含量占比为0.06-0.5％，随着纳米银线占比上升，薄膜的透光率将从99％下降到90％。