[发明专利]用于热处理腔室的边缘环

权利要求书

1.一种用以于热处理腔室中支撑基板的边缘环，所述边缘环包含：

环形主体，所述环形主体由内缘、外缘、上侧及下侧所界定，其中所述内缘及所述外缘绕中心轴而同心；

唇部，所述唇部由所述环形主体的所述内缘向内径向延伸，所述唇部形成与所述内缘同心的中心开口；和

一或更多个表面面积增加结构，所述一或更多个表面面积增加结构由所述环形主体的所述上侧或下侧的至少一侧延伸，其中所述一或更多个表面面积增加结构具有至少一个倾斜侧。

2.如权利要求1的边缘环，其中所述一或更多个表面面积增加结构包括鳍片，所述鳍片由所述环形主体的所述下侧而延伸，且所述鳍片具有相对于所述环形主体的至少一个倾斜侧。

3.如权利要求2的边缘环，其中所述鳍片形成与所述内缘及所述外缘同心的圆形壁，且所述鳍片位于所述内缘与所述外缘之间。

4.如权利要求3的边缘环，其中所述唇部的上表面位于所述环形主体的上表面下方，使得所述唇部及主体形成凹部。

5.如权利要求1的边缘环，其中所述一或更多个表面面积增加结构包括鳍片，所述鳍片设置于所述环形主体的所述内缘处，且所述唇部由所述鳍片处延伸。

6.如权利要求2的边缘环，其中所述唇部相对所述环形主体的主要平面以一角度而倾斜。

7.如权利要求1的边缘环，还包括定位构件，所述定位构件由所述环形主体靠近所述外缘而延伸，并且其中所述一或更多个表面面积增加结构包括鳍片，所述鳍片在所述环形主体的所述上侧或下侧的至少一侧上形成于所述唇部和所述定位构件之间。

8.如权利要求2的边缘环，还包括定位构件，所述定位构件由所述环形主体靠近所述外缘而延伸。

9.如权利要求1的边缘环，其中所述边缘环由碳化硅材料形成。

10.如权利要求2的边缘环，还包括第二鳍片。

11.一种用以于热处理腔室中支撑基板的边缘环，所述边缘环包含：

环形主体，所述环形主体由内缘、外缘、上侧及下侧所界定，其中所述内缘及所述外缘绕中心轴而同心；

唇部，所述唇部由所述环形主体的所述内缘向内径向延伸，所述唇部形成与所述内缘同心的中心开口；和

一或更多个表面面积增加结构，所述一或更多个表面面积增加结构由所述环形主体的所述上侧或下侧的至少一侧延伸，其中所述一或更多个表面面积增加结构包括鳍片，所述鳍片由所述环形主体的所述下侧而延伸，所述鳍片具有相对于所述环形主体的至少一个倾斜侧，并且所述唇部由所述鳍片处延伸。

12.如权利要求11的边缘环，其中所述鳍片形成与所述内缘及所述外缘同心的圆形壁，且所述鳍片位于所述内缘与所述外缘之间。

13.如权利要求12的边缘环，其中所述唇部的上表面位于所述环形主体的上表面下方，使得所述唇部及主体形成凹部。

14.如权利要求11的边缘环，其中所述唇部相对所述环形主体的主要平面以一角度而倾斜。

15.如权利要求11的边缘环，还包括定位构件，所述定位构件由所述环形主体靠近所述外缘而延伸，并且其中所述一或更多个表面面积增加结构包括鳍片，所述鳍片在所述环形主体的所述上侧或下侧的至少一侧上形成于所述唇部和所述定位构件之间。

16.如权利要求11的边缘环，还包括定位构件，所述定位构件由所述环形主体靠近所述外缘而延伸。

17.如权利要求11的边缘环，其中所述边缘环由碳化硅材料形成。

18.如权利要求11的边缘环，还包括第二鳍片。