[发明专利]晶片清洗机及一种晶片清洗的方法

权利要求书

1.一种晶片清洗机，其特征在于：它包括清洗机本体（1），所述本体（1）内设置有清洗仓（2），所述本体（1）上设置有控制面板（3），所述本体（1）上设置有与所述清洗仓（2）相适配的封仓门（4），所述清洗仓（2）内依次设置有均与所述控制面板（3）电性连接的超声波NDK花王清洗装置（5）、喷淋洗净装置（6）和超声波纯净水清洗装置（7），所述超声波NDK花王清洗装置（5）、所述喷淋洗净装置（6）和所述超声波纯净水清洗装置（7）均设置有若干个网杯（8），所述网杯（8）内均设置有晶片，所述超声波NDK花王清洗装置（5）包括第一清洗槽（51）、第一提篮机构（52）、第一液体集装箱（53）、第一超声波仪器、第一回收槽（54）、第一管道（55）和NDK花王清洗溶剂，所述第一清洗槽（51）安装于所述清洗仓（2）的一端，所述第一提篮机构（52）与所述第一清洗槽（51）相适配且安装于所述第一清洗槽（51）内，所述第一提篮机构（52）内设置有若干个所述网杯（8），所述第一液体集装箱（53）安装于所述本体（1）的一端且与所述第一清洗槽（51）通过第一管道（55）相连通，所述第一超声波仪器安装于所述第一清洗槽（51）的底部，所述第一回收槽（54）安装于所述第一清洗槽（51）的外侧，且与所述第一液体集装箱（53）相连通，所述第一液体集装箱（53）内装有所述NDK花王清洗溶剂，所述NDK花王清洗溶剂通过所述第一管道（55）从所述第一液体集装箱（53）流入所述第一清洗槽（51），所述喷淋洗净装置（6）包括安装于所述清洗仓（2）中间上的安装底板（61）和安装于所述本体（1）的一端上的第二液体集装箱，所述第二液体集装箱内装有第一纯水，所述安装底板（61）上设置有若干个与所述网杯（8）相适配的网瓶（62），所述安装底板（61）的两端设置均设置有若干个喷洒机构（63），所述喷洒机构（63）均与所述第二液体集装箱通过第二管道相连通，所述安装底板（61）的底端设置有废液排放槽（64），所述超声波纯净水清洗装置（7）包括第二清洗槽（71）、第二提篮机构（72）、第三液体集装箱、第二超声波仪器、第三管道（73）和第二回收槽（74），所述第二清洗槽（71）安装于所述清洗仓（2）的另一端，所述第二提篮机构（72）与所述第二清洗槽（71）相适配且安装于所述第二清洗槽（71）内，所述第二提篮机构（72）内设置有若干个所述网杯（8），所述第三液体集装箱与所述第二清洗槽（71）通过所述第三管道（73）相连通，所述第三液体集装箱装有第二纯水，所述第二纯水通过所述第三管道（73）从所述第三液体集装箱流入所述第二清洗槽（71），所述第二超声波仪器安装于所述第二清洗槽（71）的底部，所述第二回收槽（74）安装于所述第二清洗槽的外侧，且所述第二回收槽（74）与所述第二液体集装箱相连通。

2.根据权利要求1所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述第一提篮机构（52）和所述第二提篮机构（72）均包括清洗框（9）、连杆（10）和与控制面板（3）电性连接的驱动气缸（11），所述第一清洗槽（51）和所述第二清洗槽（71）内均设置有所述清洗框（9），所述清洗框（9）上均设置有若干个所述网杯（8），所述清洗框（9）的上端两侧与所述连杆（10）相连接，所述连杆（10）与所述驱动气缸相连接，所述驱动气缸安装于所述清洗仓（2）的壁内。

3.根据权利要求1所述的一种晶片清洗机，其特征在于：所述喷洒机构（63）包括支架（631）和喷洒头（632），所述支架（631）位于所述安装底板（61）的两端，所述喷洒头（632）安装于所述支架（631）的顶端，所述喷洒头（632）与所述第二管道相连接。

4.根据权利要求2所述的晶片清洗机，其特征在于：所述第一液体集装箱（53）与第一管道（55）的连接出口处设置有第一负吸装置，所述第二液体集装箱与第二管道的连接出口处设置有第二负吸装置，所述第三液体集装箱与第三管道（73）的连接出口处设置有第三负吸装置。

5.根据权利要求4所述的晶片清洗机，其特征在于：所述第一负吸装置、所述第二负吸装置、所述第三负吸装置均为抽水泵，且所述第一负吸装置、所述第二负吸装置、所述第三负吸装置均与所述控制面板（3）电性连接。