[发明专利]多位点检测区、微电极阵列及其制备方法

权利要求书

1.一种多位点检测区组，包括多个用于多活性位点神经递质检测的多位点检测区(4)，其特征在于，所述多位点检测区(4)包括：

检测电极本体；以及

纳米复合薄膜层(6)，设置在所述检测电极本体上，

其中，所述检测电极本体包括：

一圆形微电极(41)，直径10μm；

多个弧形微电极(42)，围绕所述圆形微电极(41)排列，

所述多位点检测区(4)为14个，呈三排，左右对称分布；

所述纳米复合薄膜层(6)设置在所述圆形微电极(41)和所述多个弧形微电极(42)上。

2.根据权利要求1所述的多位点检测区组，其特征在于，所述纳米复合薄膜层(6)为铂黑石墨烯或纳米金石墨烯材料制成，厚度0.05μm～0.2μm。

3.根据权利要求1所述的多位点检测区组，其特征在于，所述弧形微电极(42)与圆形微电极(41)之间的距离为单个神经细胞的平均半径。

4.根据权利要求1所述的多位点检测区组，其特征在于，所述弧形微电极(42)数量为3个，所述圆形微电极(41)与三个所述弧形微电极(42)分别与一条导线(3)电连接用于传递电信号，四条导线呈“十”字布置。

5.根据权利要求1所述的多位点检测区组，其特征在于，所述圆形微电极(41)或弧形微电极(42)材料为铂或铱。

6.一种平面微电极阵列，包括权利要求1-4任一所述的多位点检测区组，所述平面微电极阵列还包括：

基底(1)，所述多个多位点检测区(4)设置在基底(1)上的中心位置；以及

多个触点(2)，设置在所述基底(1)表面的周边区域；

所述每一触点(2)与一圆形微电极(41)或弧形微电极(42)相对应，由导线(3)进行电连接。

7.根据权利要求6所述的平面微电极阵列，其特征在于，还包括：

绝缘层(5)，覆盖所述基底(1)表面，仅暴露所述检测电极本体及所述触点(2)。

8.根据权利要求7所述的平面微电极阵列，其特征在于，所述绝缘层(5)材料为二氧化硅、氮化硅或聚酰亚胺，厚度为500nm～1000nm。

9.根据权利要求6所述的平面微电极阵列，其特征在于：所述多位点检测区(4)在对称的左侧或右侧中的每一排中，每相邻的两个检测区，距离约为500μm。

10.一种根据权利要求6所述的平面微电极阵列的制备方法，其特征在于，包括：

在基底(1)表面上形成导电图案，所述导电图案包括位于基底(1)表面中心位置的多个多位点检测区(4)的检测电极本体；以及

在所述检测电极本体上形成纳米复合薄膜层(6)。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述导电图案的制备步骤包括：

在基底(1)上旋涂一层光刻胶，通过曝光显影形成光刻胶图案；

在带有光刻胶图案的基底(1)表面依次溅射Ti种子层和PT薄膜层；以及

剥离光刻胶图案及其上的Ti种子层和PT薄膜层，形成所述导电图案。

12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，在形成纳米复合薄膜层(6)步骤前，还包括：

在基底(1)上形成仅暴露所述检测电极本体的绝缘层(5)。