[发明专利]用于运行金属氧化物半导体场效应晶体管的方法有效

专利信息
申请号: 201610953777.9 申请日: 2016-11-03
公开(公告)号: CN107104662B 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: D.马奎特;B.维歇尔特;F.于尔茨赫费尔 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H03K17/13 分类号: H03K17/13
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 卢江;杜荔南
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 运行 金属 氧化物 半导体 场效应 晶体管 方法
【权利要求书】:

1.用于运行金属氧化物半导体场效应晶体管MOSFET(54)的方法,其中MOSFET(54)以开关运行来运行,并且其中MOSFET(54)的通过S端子(源极)和D端子(漏极)来表征的区段从不导通的状态(21)切换到导通的状态(23)或相反地切换,并且其中馈送到MOSFET(54)的G端子、即栅极中的驱动电流(12)的值(12a;12b;12c)根据D端子和S端子之间的电压、即DS电压(14)来预先给定,并且其中驱动电流(12)的值根据DS电压(14)的时间变化在不同的值(12a;12b;12c)之间进行切换,其特征在于,所述值(12a;12b;12c)中的至少一个借助调节(43)来预先给定。

2.根据权利要求1所述的方法,其中DS电压(14)的从时间变化确定的边沿陡度(15)与额定值(46)进行比较。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中调节(43)根据时间差来进行,并且其中所述时间差通过离开不导通的状态(21)并且到达导通的状态(23)来表征,或者通过离开导通的状态(23)并且到达不导通的状态(21)来表征。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其中驱动电流(12)根据DS电压(14)的当前时间变化在不同的值(12a;12b;12c)之间进行切换。

5.根据权利要求1或2所述的方法,其中第一调节(43)被设置用于MOSFET(54)从不导通的状态(21)切换到导通的状态(23),并且其中第二调节(43)被设置用于MOSFET(54)从导通的状态(23)切换到不导通的状态(21)。

6.根据权利要求1或2所述的方法,其中如果MOSFET(54)应该切换到导通的状态(23),但是还未导通,则预先给定用于MOSFET(54)的第一状态(21)的驱动电流(12)的第一值(12a),并且其中如果MOSFET(54)处于不导通的状态(21)和导通的状态(23)之间的过渡状态,则预先给定用于MOSFET(54)的第二状态(22)的驱动电流(12)的第二值(12b),并且其中如果MOSFET(54)导通,则预先给定用于MOSFET(54)的第三状态(23)的驱动电流(12)的第三值(12c)。

7.根据权利要求6所述的方法,其中如果DS电压(14)比第一状态(21)中的DS电压(14)小第一阈值(24a),则进行从驱动电流(12)的第一值(12a)到第二值(12b)的切换,并且其中如果DS电压(14)小于第三状态(23)中的DS电压(14)加上第二阈值(24b)的和,则进行从驱动电流(12)的第二值(12b)到第三值(12c)的切换。

8.根据权利要求1或2所述的方法,其中如果MOSFET(54)应该切换到不导通的状态(21),但是还导通,则预先给定用于MOSFET(54)的第一状态(23)的驱动电流(12)的第一值(12c),并且其中如果MOSFET(54)处于导通的状态(23)和不导通的状态(21)之间的过渡状态,则预先给定用于MOSFET(54)的第二状态(22)的驱动电流(12)的第二值(12b),并且其中如果MOSFET(54)不导通,则预先给定用于MOSFET(54)的第三状态(21)的驱动电流(12)的第三值(12a)。

9.根据权利要求8所述的方法,其中如果DS电压(14)比第一状态(23)中的DS电压(14)大第一阈值(24b),则进行从驱动电流(12)的第一值(12c)到第二值(12b)的切换,并且其中如果DS电压(14)大于第三状态(21)中的DS电压(14)与第二阈值(24a)的差,则进行从驱动电流(12)的第二值(12b)到第三值(12a)的切换。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610953777.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top