[发明专利]抗蚀剂剥离液组合物、平板及其制造方法和显示装置

说明书

本发明涉及一种抗蚀剂剥离液组合物、显示装置用平板及其制造方法和显示装置。所述抗蚀剂剥离液组合物包含(a)下述化学式1所表示的化合物和(b)碱系化合物，并且选择性地进一步包含上述(a)成分和(b)成分以外的(c)其他成分。下述化学式1中，n为1～3的整数；R₁和R₂各自独立地为氢、C1～C10的烷基，或者为包含1～5个氧原子和2～10个碳原子且氧原子和碳原子形成醚键的基团；R₃和R₄不存在，或者各自独立地为C1～C5的烷氧基；C6～C12的芳基；被氨基或C1～C5的烷基取代或非取代的C6～C12的芳氧基；羟基；‑CN；或氨基。[化学式1]

技术领域

本发明涉及抗蚀剂剥离液组合物、使用上述剥离液的显示装置用平板的制造方法及利用其制造的显示装置用平板、和包含上述平板的显示装置。

背景技术

随着近年来对于平板显示装置的高分辨率呈现的要求增加，正持续进行着使每单位面积的像素增加的努力。面对这样的趋势，也要求配线宽度的减小，为了应对这些要求，引入了干式蚀刻工序等以致工序条件也越来越苛刻。

此外，因平板显示装置的大型化，还要求配线中的信号速度加快，因此作为配线材料，电阻率比铝低的铜得到实用化。随之，对于作为抗蚀剂去除工序的剥离工序中所使用的剥离液的需求性能也变高。

具体而言，对于针对干式蚀刻工序后产生的蚀刻残渣的去除力和针对金属配线的腐蚀抑制力等，要求相应水平的剥离特性。特别是，还要求针对铝以及铜的腐蚀抑制力，并且为了确保价格竞争力，也要求如基板的处理张数增多这样的经济性。

应对这样的要求，开发了新的技术。例如，韩国公开专利2012-0055449号公开了，将乙二醇醚和乙酸酯类用作添加剂的光致抗蚀剂剥离液组合物。上述技术的特征在于，将乙二醇醚和乙酸酯类用作添加剂和溶剂。

然而，沸点低的一部分乙二醇醚类在工序中的挥发量多，因此会使工序损失(Loss)增加，乙酸酯类由于能够与作为剥离剂的基本组成的有机胺和碱系化合物反应，因此具有难以保证光致抗蚀剂剥离液的性能的缺点。

现有技术文献

专利文献

韩国公开专利2012-0055449

发明内容

所要解决的课题

本发明是用于解决如上所述的以往技术问题的发明，其目的在于，提供一种抗蚀剂图案以及干式和湿式蚀刻残渣去除能力优异、剥离工序中不发生挥发，而且剥离工序后不会残留的抗蚀剂剥离液组合物。

此外，本发明的目的在于，提供使用上述剥离液组合物的显示装置用平板的制造方法及利用其制造的显示装置用平板、包含上述平板的显示装置。

解决课题的方法

为了实现上述目的，本发明提供一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含(a)下述化学式1所表示的化合物和(b)碱系化合物，并且选择性地进一步包含上述(a)成分和(b)成分以外的(c)其他成分，

[化学式1]

上述式中，n为1～3的整数；

R₁和R₂各自独立地为氢、C1～C10的烷基，或者为包含1～5个氧原子和2～10个碳原子且氧原子和碳原子形成醚键的基团；

R₃和R₄不存在，或各自独立地为C1～C5的烷氧基；C6～C12的芳基；被氨基或C1～C5的烷基取代或非取代的C6～C12的芳氧基；羟基；-CN；或氨基。