[发明专利]AMOLED显示器的制作方法及AMOLED显示器

权利要求书

1.一种AMOLED显示器的制作方法，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：

步骤一、在第一基板的一侧依次制备相变材料层和发光层后，在第一基板的另一侧覆盖掩膜图形并进行激光处理，得到A部分；

步骤二、在第二基板上依次制作薄膜晶体管、阳极和空穴层，得到B部分；

步骤三、使A部分的发光层和B部分的空穴层贴合；以及

步骤四、除去所述第一基板和所述相变材料层，在原相变材料层的位置依次制备电子层和阴极，封装后得到所述AMOLED显示器，

在步骤一中，对相变材料的要求是在激光照射下内部结构改变，相变材料的本体收缩，以减少发光层内的像素间距和子像素间距，

激光处理至少需要照射像素与像素之间的间隙，以及子像素与子像素之间的间隙。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一基板为玻璃基板。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光处理的波长为308nm或355nm，能量密度为10～5000MJ/cm²，频率为10～3000Hz，能量为10～1000毫焦，时间为1～500ns。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过真空热蒸镀的方式，采用有机发光材料在所述相变材料层的表面成膜，得到所述发光层。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在蒸镀所述发光层时，所述相变材料层不发生变化。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述相变材料层中的相变材料为氯化聚乙烯。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过溅射或蒸镀工艺将电子层和阴极置于发光层之上。

8.一种AMOLED显示器，其特征在于，所述AMOLED显示器通过权利要求1至7中任一项所述的方法制备得到。

9.根据权利要求8所述的AMOLED显示器，其特征在于，所述显示器包括第二基板、AMOLED发光区域和封装层，所述AMOLED发光区域设置于第二基板上，封装层设置在AMOLED发光区域的顶部和四周，将AMOLED发光区域封装，所述AMOLED发光区域包括由上到下依次设置的阴极、电子层、发光层、空穴层、阳极和薄膜晶体管，所述薄膜晶体管与所述第二基板贴合。