[发明专利]激光光斑测量系统及方法有效
| 申请号: | 201610848411.5 | 申请日: | 2016-09-23 |
| 公开(公告)号: | CN107869956B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
| 发明(设计)人: | 蓝科;王诗华 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01B11/24 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
| 地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光 光斑 测量 系统 方法 | ||
技术领域
本发明涉及激光封装技术领域,特别涉及一种激光光斑测量系统及方法。
背景技术
有机发光二极管又称为有机电激光显示(Organic Light-Emitting Diode,OLED),OLED是平板显示和照明领域的一个重大发展方向,根据OLED的工艺需求,由于OLED芯片的寿命极易受到氧气和水气的影响,因此需要一道工艺将其封装在密闭空间里,以隔离外部环境。要提高OLED的寿命,激光封装是一个有前景的工艺手段,就需要相应的激光封装设备用于完成激光封装工艺。
对于目前的激光封装设备,如图1(a)所示,主要包括透镜10、成像单元11、和测试台12。其中所述成像单元11设置在所述测试台12上,并且所述成像单元11包括感光面。激光光斑穿过所述透镜10在所述成像单元11的感光面上成像。通过垂向移动所述测试台12,调整所述激光光斑在所述成像单元11上成像的清晰程度。当成像最清晰的时候,所述成像单元11的感光面即最佳焦面。如图1(b)所示,由于成像单元11的感光面111外的位置112处有保护玻璃、金属电极及滤波片等多层结构,这些层的厚度无法进行准确测量。导致当通过垂向移动所述测试台3找到最佳焦面时,仍无法得知此最佳焦面的具体高度值。
因此有必要开发一种激光光斑测量系统,能够实现对最佳焦面的高度值进行测量,这对激光封装设备的装调、性能测试具有重要意义。
发明内容
本发明的目的在于提供一种激光光斑测量系统及方法,以解决现有的成像单元无法准确测量出最佳焦面的具体高度值的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种激光光斑测量系统,用于测量激光光斑最佳焦面的高度值,包括测量装置和中继装置,所述中继装置设置在所述测量装置上,并能够在所述测量装置上垂向移动,其中,所述中继装置包括:透镜,用于将激光光斑成像;成像单元,用于接收并输出通过所述透镜所形成的图像。
可选的,在所述激光光斑测量系统中,所述成像单元包括感光面。
可选的,在所述激光光斑测量系统中,所述中继装置还包括带有基准标记的基准板。
可选的,在所述激光光斑测量系统中,所述基准标记位于所述基准板的标记面。
可选的,在所述激光光斑测量系统中,所述标记面为所述基准板的上表面或下表面。
可选的,在所述激光光斑测量系统中,所述的标记面与所述感光面为共轭关系。
可选的,在所述激光光斑测量系统中,所述成像单元为轮廓仪或者CCD(图像传感器)。
可选的,在所述激光光斑测量系统中,所述中继装置还包括分光板,用于减弱所述激光光斑的能量。
本发明还提供了一种基于上述激光光斑测量系统的激光光斑测量方法,包括如下步骤:
在测量装置上设置中继装置的基准高度;
移动所述中继装置,使被测激光光斑在成像单元上成像清晰;
计算出激光光斑最佳焦面的垂向高度值。
可选的,在所述激光光斑测量方法中,在测量装置上设置中继装置的基准高度是将一个已知位置定为基准高度。
可选的,在所述激光光斑测量方法中,移动所述中继装置是将所述中继装置作为整体垂向移动。
可选的,在所述激光光斑测量方法中,计算出激光光斑最佳焦面的垂向高度值是指,相对于所述基准高度,测量出所述中继装置在所述测量装置上移动的距离。
在本发明提供的激光光斑测量系统及方法中,激光光斑测量系统包括测量装置和中继装置,所述中继装置设置在所述测量装置上,并能够在所述测量装置上垂向移动,其中,所述中继装置包括:透镜,用于将激光光斑成像;成像单元,用于接收并输出通过所述透镜所形成的图像。先将所述中继装置在所述测量装置上的已知位置设置为基准高度,再通过整体垂向移动所述中继装置,使激光光斑在感光面上清晰成像,所述测量装置测量出所述中继装置相对于基准高度移动的距离,即激光光斑最佳焦面的高度值。同时通过感光面上图像,可得知激光光斑的轮廓形貌。
附图说明
图1(a)是现有的激光封装设备结构示意图;
图1(b)是成像单元上感光面的各层情况示意图;
图2(a)是本发明实施例一的激光光斑测量系统的结构示意图;
图2(b)是本发明提供的激光光斑测量方法流程示意图;
图3是本发明实施例二的激光光斑测量系统的结构示意图;
图4是本发明实施例三的激光光斑测量系统的结构示意图;
图5是本发明实施例四的激光光斑测量系统的结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610848411.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





