[发明专利]一种光配向系统

说明书

本发明提供了一种光配向系统，包括：激光器，用以产生激光；分束单元，用以将所述激光器产生的激光分成两光束；扩束单元，用以分别将所述分束单元分束后的两光束的光斑调整为条状光斑；光束反射单元，用以分别将所述扩束单元调整过的两光束反射后于玻璃基板上形成干涉条纹；工件台，用以承载所述玻璃基板沿扫描方向移动，完成对所述玻璃基板上配向膜的配向；能量探测单元，用以分别探测经所述分束单元分束后的两光束的能量；条纹探测单元，用以探测所述干涉条纹的分布；控制单元，用以根据所述能量探测单元和所述条纹探测单元反馈的信息，通过执行部件对两光束进行调整，从而得到所需的干涉条纹。

技术领域

本发明涉及液晶配向领域，尤其涉及一种基于干涉的光配向系统。

背景技术

TFT-LCD Cell成盒工艺段，为了使液晶独特的光学异向性能发挥其特性，必须使液晶具有特定的方向排列，配向技术就是为了达到此目的。传统的工艺是通过摩擦式配向(Rubbing-Alignment)来实现的，其使用毛绒布(材质为Cotton、Nylon、Rayon等)定向摩擦Polyimide(PI)高分子薄膜表面后，使高分子主链因延伸而顺向排列，而产生的微沟槽可以诱导液晶分子沿着沟槽配列而达液晶分子的配向效果。

此摩擦配向技术的优点是操作时间极短，在常温下操作即可，具有量产特性，但若沿用至高世代大面积配向制程上，就会出现配向不均匀、粉尘颗粒、静电残留和摩擦印痕等种种问题，会使得制程良率大幅降低。有鉴于此，非接触的配向成为配向制程中的最佳解决方案。

非接触式配向方案目前主要有：光配向(Photo-Alignment)、离子束配向(Ionbeam-Alignment)、等离子配向(Plasma beam-Alignment)等，而光配向技术是目前最多厂商研发的技术。光配向技术也有多种，如PSA(Polymer Sustained Alignment)和MVA(Multi-domain Vertical Alignment)等。其中MVA技术的液晶屏具有最宽的视场角和最快的响应速度。因此受到各液晶配向厂商的青睐。

MVA为了实现更宽的视角，需要形成多畴(例如四畴)的液晶配向，每个畴中液晶分子的旋转方向都设计成不同，如图1(a)所示。这就需要在像素的不同区域形成不同的预倾角和配向角。以夏普的四畴光配向为例进行的说明，通过两次曝光(CF(Color Filter)基板1和TFT基板2各两次)，每次改变Pixel内的漏光位置，并在每次曝光时改变入射角的方向，从而实现两个区域的液晶光配向的不同预倾角，如图1(b)，图1(c)所示，这样，CF层1和TFT层2各有两种不同的配向预倾角，2*2从而形成四畴配向。增加显示的视角范围。

其中，图1(a)示意了通电时4畴中液晶分子的旋转方式，图1(b)示意了CF基板侧与TFT基板侧贴近配向膜表面的液晶分子的指向，图1(c)示意了CF基板侧与TFT基板侧配向膜配向方向；

夏普四畴MVA配向曝光方式如图2所示，曝光分为TFT基板曝光(如图2(a))与CF基板曝光(如图2(b))，皆为接近式扫描曝光。掩模3上开有漏光孔4，漏光孔4的宽度为单个颜色像素的一半。曝光时，先沿着A路径扫描，入射光入射角例如为5°。曝光单个颜色像素的一半，A路径曝光完成后，基板旋转180度，掩模3的通光孔4平移0.5个颜色像素，然后沿B路径扫描曝光，从而实现以例如-5°曝光另外半个颜色像素。从而实现如图1(c)所示的配向结果。

CF基板的曝光方式与TFT基板基本相同，也是两次扫描曝光，扫描路径分别为图2(b)中的C和D。只是相对于TFT基板，其扫描方向旋转了90°，从而实现如图1(c)所示的CF侧的配向结果。

分析夏普的配向曝光方式，可以看出其不足，即不管是TFT基板还是CF基板，其采用接近式曝光，光掩模与基板间距离贴近，加上掩模的自重变形，容易导致掩模与基板之间的摩擦划伤。

发明内容

为了克服以上不足，本发明提供了一种基于干涉的光配向系统，包括：