[发明专利]重复使用于制造发光元件的基板的方法有效

专利信息
申请号: 201610837488.2 申请日: 2016-09-21
公开(公告)号: CN106972082B 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 李世昌;李荣仁;陈孟扬 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 重复使用 制造 发光 元件 方法
【说明书】:

发明公开一种重复使用于制造发光元件的基板的方法,其包含步骤︰(a)提供一基板;(b)形成一成核层于基板上;(c)形成一半导体叠层于成核层上;以及(d)分离半导体叠层与成核层以裸露成核层,其中在步骤(c)之前,还包含形成一牺牲层于成核层上。

技术领域

本发明涉及一种发光元件的制造方法,尤其是涉及一种使用可再度使用的基板制造发光元件的方法。

背景技术

发光二极管被广泛地用于固态照明光源。相较于传统的白炽灯泡和荧光灯,发光二极管具有耗电量低以及寿命长等优点,因此发光二极管已逐渐取代传统光源,并且应用于各种领域,如交通号志、背光模块、路灯照明、医疗设备等。

发明内容

本发明提供一种重复使用于制造发光元件的基板的方法,其包含步骤︰(a)提供一基板;(b)形成一成核层于基板上;(c)形成一半导体叠层于成核层上;以及(d)分离半导体叠层与成核层以裸露成核层,其中在步骤(c)之前,还包含形成一牺牲层于成核层上。

附图说明

图1为本发明的制造发光元件的流程示意图;

图2为本发明的半导体叠层的剖视图;

图3为图1的子流程S的流程示意图;

图4为本发明的一实施例的发光元件的剖视图;

图5为本发明的另一实施例的制造发光元件的流程示意图。

符号说明

10:成长基板 101:上表面

20:成核层 201:顶表面

30:牺牲层 40:半导体叠层

200:反射系统 50:支撑基板

60:连接层 70:第一中间结构

80:第二中间结构 400:发光叠层

401:第一限制层 402:第二限制层

403:活性层 404:蚀刻停止层

405:缓冲层 406:第一接触层

407:第二接触层 408:第一窗户层

409:第二窗户层 90:第一电极

410:切割道 100:第二电极

110:导电反射镜 120:电流扩散层

130:透明导电层 140:绝缘层

150:钝化层 160:保护层

具体实施方式

以下实施例将伴随着附图说明本发明的概念,在附图或说明中,相似或相同的部分是使用相同的标号,并且在附图中,元件的形状或厚度可扩大或缩小。需特别注意的是,图中未绘示或说明书未描述的元件,可以是熟习此技术的人士所知的形式。

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