[发明专利]一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统

说明书

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统。

背景技术

目前的显示类型主要包括液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)、有机发光二极管显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)、等离子显示(Plasma Display Panel，PDP)和电子墨水显示等多种。其中，OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。

现有的OLED发光显示器，在制作有机发光层时，通常是通过掩模板在需要发光的位置进行有机物的蒸镀。然而，蒸镀完有机物后的掩模板，通常需要进行定期清洗以去除附着在其上的有机物。在现有技术中，通常是通过湿法工艺对掩模板上的有机物进行清洗，而湿法清洗工艺不仅需要较长的工艺线，占用较大的使用面积，掩模板的清洗过程繁琐复杂，而且在清洗过程中，会产生清洗废液，为了使产生的废液不对环境不造成污染，还需设置对废液的再处理设备，成本较高。

申请内容

本申请的目的是提供一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统，以简化掩模板的清洗工艺，降低掩模板的清洗成本，保护环境。

本申请的目的是通过以下技术方案实现的：

本申请实施例提供一种掩模板清洗装置，所述装置包括：清洗腔室，设置于所述清洗腔室内的至少一个导电板，以及设置于所述清洗腔室壁的第一排气阀、第一进气阀以及第一检测部件；

所述第一排气阀与真空泵连接，在所述真空泵对所述清洗腔室抽真空的作用下，使得所述清洗腔室达到第一预设真空状态；

所述第一检测部件用于检测所述清洗腔室是否到达所述第一预设真空状态；

所述第一进气阀用于在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，向所述清洗腔室内注入清洗气体；

所述导电板，用于放置待清洗的掩模板，以及在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，通过加电使得所述清洗气体电离，电离后的清洗气体对所述掩模板进行清洗。

本申请实施例提供的掩模板清洗装置，包括与真空泵连接的第一排气阀以及用于注入清洗气体的第一进气阀，在清洗腔室达到第一预设真空状态时，由加电的导电板电离清洗气体，使清洗气体形成高能量的等离子体，由等离子体轰击掩模板上的有机物，进而实现对掩模板上有机物的清洗，清洗过程简单快捷，成本较低，并且不会产生清洗废液，避免环境污染。

优选的，所述装置还包括：设置于所述清洗腔室壁的第二检测部件，所述第二检测部件用于通过对所述清洗腔室在清洗过程中产生的气体的发光光谱进行检测，确定所述清洗腔室对所述掩模板的清洗程度。

本申请实施例的掩模板清洗装置还包括第二检测部件，第二检测部件能够对清洗腔室内气体的发光光谱进行检测，通过检测清洗腔室内有无特定的发射光谱进而确定掩模板是否清理干净。

优选的，所述装置还包括：设置于所述清洗腔室壁的第三检测部件，所述第三检测部件用于通过对所述清洗腔室内的气体进行检测，进而确定注入到所述清洗腔室的清洗气体的量，以及确定所述清洗腔室在清洗过程中所产生的杂质气体的成分以及杂质气体的量。

本申请实施例的掩模板清洗装置还包括第三检测部件，所述第三检测部件可以对清洗腔室内杂质气体的成分以及杂质气体的量的多少进行检测，进而可以在注入清洗气体时，对注入的清洗气体的量的多少进行检测，并且还可以对清洗气体在清洗过程中产生的杂质气体的成分以及杂质气体的量的多少进行检测，进而可以确定掩模板的污染程度。

优选的，所述导电板包括板状的导电板本体，以及设置于所述导电板本体端部，并向垂直于所述导电板本体方向凸起的导电板限位部件，所述导电板本体用于承载所述掩模板，所述导电板限位部件用于限制所述掩模板位于所述导电板本体上。

优选的，所述清洗腔室内设置有多个分层设置的所述导电板。

本申请实施例提供的掩模板清洗装置，所述清洗腔室内设置有多个分层设置的所述导电板时，可以使掩模板清洗装置同时对多个掩模板进行清洗，节约资源，提高清洗效率。

优选的，所述清洗腔室内设置有两个分层设置的所述导电板，分别为上导电板和下导电板；

所述下导电板用于承载所述掩模板；