[发明专利]一种有机发光器件的制备方法

权利要求书

1.一种有机发光器件的制备方法，其特征在于该方法的制备步骤如下：

第一步：将ITO透明导电玻璃基片在清洗剂中超声处理后，进行清洗，再烘烤至干燥，然后用紫外灯和臭氧进行处理，再把处理过的ITO透明导电玻璃基片置于真空腔内，抽真空至3.0×10^-4～4.0×10^-4Pa；

第二步：在ITO透明导电玻璃基片上采用双源蒸镀的方法蒸镀混合物A，形成具备空穴注入以及传输性能的p型功能层，其中混合物A由掺杂剂和主体材料NPB组成，掺杂剂为MoO₃或F4-TCNQ，蒸镀速率为0.3 Å/s，镀膜厚度为45 nm；

第三步：在p型功能层上蒸镀由TAPC或TCTA形成的电子阻挡层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为14 nm；

第四步：在电子阻挡层上采用双源蒸镀的方法，将TPBi作为主体材料，PO-01或者Ir(MDQ)₂(acac)作为染料制备有机发光层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为15 nm；

第五步：在有机发光层上蒸镀TPBi，形成具有空穴阻挡和电子传输作用的电子传输层，其中蒸镀速率为2 Å/s，镀膜厚度为15 nm；

第六步：在电子传输层上采用双源蒸镀的方法蒸镀混合物B，形成具备电子注入以及传输性能的n型功能层，其中混合物B由掺杂剂Li和主体材料TPBi组成，蒸镀速率为2 Å/s，镀膜厚度为10 nm；

第七步：在n型功能层上采用双源蒸镀的方法蒸镀混合物C，形成具备空穴注入以及传输性能的p’型功能层，其中化合物C由掺杂剂和主体材料NPB组成，掺杂剂为MoO₃或F4-TCNQ，蒸镀速率为2 Å/s，镀膜厚度为35 nm；

第八步：在p’型功能层上真空蒸镀Al层，形成阴极，即得有机发光器件，其中Al层的厚度为100nm。

2.根据权利要求1所述的一种有机发光器件的制备方法，其特征在于：所述第一步中清洗的步骤为先用去离子水冲洗，再依次用去离子水、丙酮、乙醇反复清洗三次。

3.根据权利要求1所述的一种有机发光器件的制备方法，其特征在于：所述第一步中将真空腔内的真空抽至3.0×10^-4Pa。

4.根据权利要求1所述的一种有机发光器件的制备方法，其特征在于：所述第二步中将NPB作为主体材料，MoO₃或F4-TCNQ作为掺杂剂制备p型功能层时，MoO₃的掺杂浓度为20 vol.%；F4-TCNQ的掺杂浓度为3 vol.%。

5.根据权利要求1所述的一种有机发光器件的制备方法，其特征在于：所述第四步中将TPBi作为主体材料，PO-01作为染料制备有机发光层时，PO-01的掺杂浓度为6 vol.%。

6.根据权利要求1所述的一种有机发光器件的制备方法，其特征在于：所述第四步中将TPBi作为主体材料，Ir(MDQ)₂(acac)作为染料制备有机发光层时，Ir(MDQ)₂(acac)的掺杂浓度为4 vol.%。

7.根据权利要求1所述的一种有机发光器件的制备方法，其特征在于：所述第六步中将TPBi作为主体材料，Li作为掺杂剂制备n型功能层时，Li的掺杂浓度为1 vol.%。

8.根据权利要求1所述的一种有机发光器件的制备方法，其特征在于：所述第七步中所述将NPB作为主体材料，MoO₃或F4-TCNQ作为掺杂剂制备p’型功能层时，MoO₃的掺杂浓度为20 vol.%；F4-TCNQ的掺杂浓度为3 vol.%。