[发明专利]铜靶材的处理方法在审
申请号: | 201610675428.5 | 申请日: | 2016-08-15 |
公开(公告)号: | CN107761064A | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;李健成 | 申请(专利权)人: | 合肥江丰电子材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23G5/032 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 高静,吴敏 |
地址: | 安徽省合肥市新站区东方大道与大禹路*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜靶材 处理 方法 | ||
1.一种铜靶材的处理方法,其特征在于,包括:
提供具有溅射面的铜靶材;
采用异丙醇溶液或者丙酮溶液,对所述铜靶材溅射面进行冲洗处理。
2.如权利要求1所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,在所述冲洗处理中,对所述溅射面进行冲洗的压力为0.5Mpa~0.8Mpa。
3.如权利要求1所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,所述异丙醇溶液中,异丙醇质量浓度大于或等于99.5%。
4.如权利要求1或3所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,所述异丙醇溶液中,异丙醇质量浓度为99.99%。
5.如权利要求1所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,所述丙酮溶液中,丙酮质量浓度大于或等于99%。
6.如权利要求1所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,在进行所述冲洗处理之后,还包括步骤:对所述铜靶材进行真空包装。
7.如权利要求6所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,进行所述真空包装的步骤包括:提供包装袋;向所述包装袋内充氩气;将所述铜靶材置于所述包装袋内;对所述包装袋进行抽真空处理。
8.如权利要求6所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,在进行所述冲洗处理之后、进行真空包装之前,还包括:采用惰性气体,对所述铜靶材溅射面进行吹干处理。
9.如权利要求8所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,所述惰性气体为氩气或氦气。
10.如权利要求8所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,所述吹干处理中,惰性气体流量为1sccm~500sccm。
11.如权利要求8所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,在进行所述吹干处理之后、进行真空包装之前,还包括:在所述铜靶材溅射面上粘附保护膜。
12.如权利要求11所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,所述保护膜为蓝膜或UV膜。
13.如权利要求1所述的铜靶材的处理方法,其特征在于,所述铜靶材为纯铜靶材或铜合金靶材。
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