[发明专利]镀膜生产线多级气氛隔离装置

说明书

本发明涉及一种镀膜生产线多级气氛隔离装置，用于在镀膜生产线中隔离相邻两镀膜室的工作气氛，包括至少两个依次邻接且以隔板相分隔的隔离室以及至少两个与所述隔离室一一对应连通设置的真空泵，在所述隔板中部还设有两端分别连通所述相邻两隔离室的狭缝通道，所述狭缝通道的上下两侧的通道壁板的两端自所述隔板分别向所述狭缝通道所连通的两隔离室内延伸预定长度。本发明在传统的气阱隔离方式基础之上，增加气阱隔离的级数，同时还配合采用狭缝通道连接相邻的隔离室而实现隔离效果更好的狭缝隔离，从而使整个隔离装置的气氛隔离效果提升，能有效满足高精度要求的气氛隔离需求，尤其适合用于例如IMITO等需要多种工艺气氛同步连续工作的镀膜工艺。

技术领域

本发明涉及基板镀膜生产技术领域，尤其涉及一种镀膜生产线多级气氛隔离装置。

背景技术

在玻璃基板镀膜生产中，IMITO工艺(消影ITO)通过引入光学膜层(AR膜)来使得ITO sensor层的反射率等同于AR膜层，从而使得肉眼无法识别ITO sensor层，达到“消影”的效果。IMITO工艺需求镀膜生产设备具备SiO₂+ITO联镀功能，但是，在PVD设备上SiO₂的成膜气氛与ITO相差巨大，为实现联镀功能，必须配备高效的气氛隔离装置。

现有的气氛隔离装置主要有两种：旋转室(Rotary chamber)隔离装置和气阱式隔离装置。其中，旋转室隔离装置可以起到很好的气氛隔离效果，但是，这种隔离装置专属于AR膜镀膜机型，成本过高；而气阱式隔离装置虽然成本低廉，但是，其气氛隔离效果有限，无法满足IMITO工艺的生产需求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种镀膜生产线多级气氛隔离装置，以提升气氛隔离效果。

为解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种镀膜生产线多级气氛隔离装置，用于在镀膜生产线中隔离相邻两镀膜室的工作气氛，包括至少两个依次邻接且以隔板相分隔的隔离室以及至少两个与所述隔离室一一对应连通设置的真空泵，在所述隔板中部还设有两端分别连通所述相邻两隔离室的狭缝通道，所述狭缝通道的上下两侧的通道壁板的两端自所述隔板分别向所述狭缝通道所连通的两隔离室内延伸预定长度。

进一步地，所述至少两个隔离室中的位于两端的隔离室分别设有与对应的一个镀膜室相贯通的狭缝通槽，所述狭缝通槽的上下两侧的槽壁板分别朝向隔离室内部延伸预定长度。

进一步地，所述狭缝通道的长高比的范围为54:500～58:500。

进一步地，位于入口侧的所述狭缝通槽的长高比的范围为70:600～80:600；位于出口侧的所述狭缝通槽的长高比的范围为54:600～58:600。

采用上述技术方案后，本发明至少具有如下有益效果：本发明通过设置至少两个相邻接的隔离室，且为每个隔离室一一对应地连接真空泵来进行抽真空处理，实现多级气阱式隔离，扭曲分子层气氛扩散路径，达到气氛隔离效果；而且，相邻的隔离室之间还通过狭缝通道相连接，狭缝隔离可更加高效地限制气氛扩散。本发明在传统的气阱隔离方式基础之上，增加气阱隔离的级数，同时还配合采用狭缝通道连接相邻的隔离室而实现隔离效果更好的狭缝隔离，从而使整个隔离装置的气氛隔离效果好，能有效满足高精度要求的气氛隔离需求，尤其适合用于例如IMITO等需要多种工艺气氛同步连续工作的镀膜工艺。

附图说明

图1是本发明镀膜生产线气氛隔离装置的结构原理示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本申请作进一步详细说明。应当理解，以下的示意性实施例及说明仅用来解释本发明，并不作为对本发明的限定，而且，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。