[发明专利]一种均匀控制激光功率的方法及系统

权利要求书

1.一种均匀控制激光功率的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、预先设定开关光参数、采集周期；

S2、切割开始后，运动控制器采集当前切割的运动矢量速度；

S3、根据所述运动矢量速度和所述采集周期，得到距离参数；

S4、根据所述距离参数和所述开关光参数，得到开关光次数；

S5、根据所述开关光次数得到PWM波形，利用所述PWM波形控制CO2激光器开关的开断，其中，所述PWM波形频率的大小为所述开关光次数。

2.根据权利要求1所述的均匀控制激光功率的方法，其特征在于，所述采集周期为1ms。

3.根据权利要求1所述的均匀控制激光功率的方法，其特征在于，所述距离参数为：

L＝V×Δt，其中V为当前切割的运动矢量速度，Δt为预先设定的采集周期。

4.根据权利要求3所述的均匀控制激光功率的方法，其特征在于，所述开关光次数为：

A＝L×N，其中N为预先设定的开关光参数。

5.一种均匀控制激光功率的系统，其特征在于，包括依次连接的运动控制器、数据处理器、CO2激光器，

所述数据处理器存储有预先设定的开关光参数、采集周期；

所述运动控制器用于在切割开始后采集当前切割的运动矢量速度，并将所述运动矢量速度发送到数据处理器；

所述数据处理器还用于根据所述运动矢量速度和所述采集周期，得到距离参数；

所述数据处理器还用于根据所述距离参数和所述开关光参数，得到开关光次数；

所述数据处理器还用于根据所述开关光次数得到PWM波形，并利用所述PWM波形控制CO2激光器开关的开断，所述CO2激光器用于根据开关的开断控制切割时的光功率，其中，所述PWM波形频率的大小为所述开关光次数。

6.根据权利要求5所述的均匀控制激光功率的系统，其特征在于，所述采集周期为1ms。

7.根据权利要求5所述的均匀控制激光功率的系统，其特征在于，所述距离参数为：

L＝V×Δt，其中V为当前切割的运动矢量速度，Δt为预先设定的采集周期。

8.根据权利要求7所述的均匀控制激光功率的系统，其特征在于，所述开关光次数为：

A＝L×N，其中N为预先设定的开关光参数。

9.根据权利要求5所述的均匀控制激光功率的系统，其特征在于，所述数据处理器为FPGA芯片。

10.根据权利要求5-9任一项所述的均匀控制激光功率的系统，其特征在于，所述数据处理器与所述CO2激光器之间设置有光电耦合器。