[发明专利]一种真空炉

说明书

技术领域

本申请涉及一种真空设备，尤其涉及一种真空炉。

背景技术

随着科学技术的不断发展，真空技术也得到了飞速的发展，真空设备的种类也越来越多，人们也享受到了真空技术带来的各种便利。

在目前的真空炉中，一般设置了一个真空腔室，真空腔室内部放置有工件，现有的技术是直接使用加热组件对真空腔室里面的工件进行加热，如此加热组件会污染工件，降低工件的质量。

发明内容

本发明了提供了一种真空炉，以解决现有的真空炉在加热过程中，加热组件会污染工件的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种真空炉，包括：

第一真空腔室，固定在操作箱的侧壁上；

第二真空腔室，容置于所述第一真空腔室内部且固定在所述操作箱的侧壁上；所述操作箱的侧壁上设置有一开口，使得所述第二真空腔室和所述操作箱内部相通；所述第二真空腔室的内部设置有载物台，所述载物台上放置工件；所述第二真空腔室的外壁覆盖有密闭的加热腔室，所述加热腔室和所述第一真空腔室之间具有间隙，在所述加热腔室内部设置有加热组件，所述加热组件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列，用于对所述第二真空腔室进行加热；

腔盖，设置在所述操作箱的开口处，用于盖设所述第二真空腔室。

优选的，所述第一真空腔室的壁结构为夹层结构，所述夹层结构的内部灌注冷却液。

优选的，所述第一真空腔室包括充气口和排气口；

所述第一真空腔室的充气口用于充入混合气体；

所述第一真空腔室的排气口用于排出所述混合气体；

在所述第一真空腔室的充气口和所述第一真空腔室的排气口的联合作用下，使所述第一真空腔室的压强和所述第二真空腔室的压强相平衡。

优选的，所述真空炉还包括：冷却装置；

所述冷却装置用于冷却氩气和/或氮气，并将冷却后的氩气和/或冷却后的氮气通过第一管道通入所述第二真空腔室的内部。

优选的，所述第一管道在所述第二真空腔室内部的第一管道形状对应所述工件的形状，且所述第一管道上开设有多个排气孔，用于对着所述工件吹出冷却后的氩气和/或冷却后的氮气，以便均匀冷却所述工件。

优选的，所述第一管道上还设置有第一控制阀门，用以控制所述冷却后的氩气和/或冷却后的氮气的流量。

优选的，所述真空炉还包括：

排气装置，通过第二管道连接所述第二真空腔室的排气口，用于排出所述第二真空腔室中的冷却后的氩气和/或冷却后的氮气；

所述第二管道上还设置有第二控制阀门。

优选的，所述冷却后的氩气和/或所述冷却后的氮气的流量范围是：50sccm/min～500sccm/min。

优选的，所述第二真空腔室的温度控制需要满足以下条件：

所述第二真空腔室的降温范围在1000℃～500℃时，时间≤30min，所述冷却后的氩气和/或所述冷却后的氮气的流量为50sccm/min；

所述第二真空腔室的降温范围在500℃～200℃，时间≤30min，所述冷却后的氩气和/或所述冷却后的氮气的流量为300sccm/min；

所述第二真空腔室的降温范围在200℃～25℃；时间≤30min，所述冷却后的氩气和/或所述冷却后的氮气的流量为500sccm/min。

优选的，所述加热器组件包括：钼、钨。

通过本发明的一个或者多个技术方案，本发明具有以下有益效果或者优点：

本发明公开了一种真空炉，包括固定在操作箱的侧壁上的第一真空腔室、固定在操作箱的侧壁上的第二真空腔室、用于盖设第二真空腔室的腔盖。第二真空腔室容置于所述第一真空腔室内部；在第二真空腔室的内部设置有载物台，所述载物台上放置工件；而在所述第二真空腔室的外壁覆盖有密闭的加热腔室，在所述加热腔室内部设置有加热组件，所述加热组件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列，用于对所述第二真空腔室进行加热，此结构可将加热组件和工件区分，进而避免加热组件对工件的污染，提高工件的质量。

进一步的，本发明将加热组件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列，可对所述第二真空腔室进行均匀加热。

进一步的，在对第二真空腔室进行冷却时，使用冷却过后的氩气和/或冷却过厚的氮气通入第二真空腔室内部进行冷却，并且将冷却的条件进行控制，进而能够保证工件的均匀、快速冷却，将工件冷却至室温只需要1～2个小时即可。