[发明专利]一种图案对、TFT及其制作方法、掩膜版在审
申请号: | 201610340807.9 | 申请日: | 2016-05-19 |
公开(公告)号: | CN105789328A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 薛艳娜;吕振华;王磊;王世君 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/08;G03F1/54 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 图案 tft 及其 制作方法 掩膜版 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种图案对、TFT及其制作 方法、掩膜版。
背景技术
TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay,薄膜晶体 管-液晶显示器)作为一种平板显示装置,因其具有体积小、功耗低、 无辐射以及制作成本相对较低等特点,而越来越多地被应用于高性能 显示领域当中。
TFT-LCD通常包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板,阵列基板 上形成有多个薄膜层图案,例如在布线区域设置有多条平行的如图1 所示的数据引线100。然而,随着高PPI(PixelsPerInch,像素数目) 以及窄边框的设计要求,布线区域的面积随之减小,因此需要进一步 减小相邻两条数据引线100之间的距离d,由于该距离d与曝光机的 分辨率成反比,因此为了减小上述距离d,需要提高曝光机的分辨率, 这样一来导致生产升本的上升。
发明内容
本发明的实施例提供一种图案对、TFT及其制作方法、掩膜版, 能够在不提高曝光机分辨率的情况下,相邻两个薄膜图案之间的距 离。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明实施例的一方面,提供一种图案对,包括第一条状图案和 第二条状图案,所述第一条状图案与所述第二条状图案之间的最大距 离小于预设分辨率的125%;其中,所述预设分辨率为用于制作所述 图案对所采用的曝光机的分辨率。
优选的,所述第一条状图案与第二条状图案之间的最大距离小于 或等于预设分辨率;所述预设分辨率为4μm。
本发明实施例的另一方面,提供一种TFT,所述TFT的源极和 漏极构成如上所述的任意一种图案对;其中,所述源极为第一条状图 案,所述漏极为第二条状图案。
优选的,所述源极和所述漏极相对的两条边中的至少一条边为曲 折边。
优选的,所述源极和所述漏极相对的两条边均为曲折边;所述源 极的曲折边上的凸出部与所述漏极的曲折边上的凸出部对称设置。
优选的,所述源极和所述漏极相对的两条边均为曲折边;所述源 极的曲折边上的凸出部与所述漏极的曲折边上的凸出部交错设置。
优选的,所述源极的曲折边上的凸出部与所述漏极的曲折边上的 凸出部为三角形、梯形或者矩形。
本发明实施例的又一方面,提供一种用于制作上述任意一种TFT 的方法,包括:在衬底基板上形成金属层;对所述金属层进行掩膜曝 光刻蚀,形成所述TFT的源极和漏极,所述源极和漏极之间的最大 距离小于预设分辨率的125%;其中,所述预设分辨率为所述对所述 金属层进行掩膜曝光刻蚀形成图案对的步骤中采用的曝光机的分辨 率。
本发明实施例的再一方面,提供一种用于制作如上所述的任意一 种TFT所采用的掩膜版,所述掩膜版包括遮光区和曝光区,所述曝 光区内设置有二次遮光部;相邻遮光区之间的最大距离小于预设分辨 率的125%。
优选的,相邻遮光区之间的最大距离小于或等于预设分辨率;所 述预设分辨率为4μm。
优选的,所述二次遮光部包括设置于所述曝光区一条边上的第一 子遮光部,以及设置于所述曝光区另一条边上的第二子遮光部。
优选的,所述第一子遮光部与所述第二子遮光部相对设置,且相 对的所述第一子遮光部与所述第二子遮光部之间具有间隙。
优选的,所述第一子遮光部与所述第二子遮光部均为等腰三角 形,所述等腰三角形的腰为1.5μm;相对的所述第一子遮光部与所 述第二子遮光部之间的间隙为1μm。
优选的,所述第一子遮光部与所述第二子遮光部交错设置,且相 邻的所述第一子遮光部与所述第二子遮光部之间具有间隙。
优选的,所述第一子遮光部与所述第二子遮光部均为边长为1.5 的正方形;相邻两个所述第一子遮光部或相邻两个所述第二子遮光部 之间的间距为3μm;相邻的所述第一子遮光部与所述第二子遮光部 之间的间隙1μm。
优选的,位于同一个曝光区内的二次遮光部的面积占所述曝光区 的面积的37%~38%。
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