[发明专利]一种金属掩膜板的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及掩膜板制造技术领域，尤其涉及一种金属掩膜板的制备方法。

背景技术

随着显示技术的发展，消费者对于影音产品的要求越来越高，对显示器厂商而言，生产高分辨率、高画质的显示器是发展方向，而有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)由于其具有自发光、高亮度、广视角、快速反应以及RGB全彩组件皆可制作等特质，已经被广泛应用于显示器中

作为新一代显示器，有机发光显示器有着相比LCD等显示器更好的特点，如自发光而不需要背光，也可以实现柔性显示等，在对比度及响应时间等方面也有优势。实现OLED器件的方法有若干种，其中比较基本的一种方法是RGB像素并置法，这种方法制作的器件显示色彩纯正，发光效率高；而RGB并置法需要用到精密金属掩模板FMM(fine metal mask)。

目前的FMM大多采用开孔的invar(殷钢)36材质掩模板，常用的FMM的制作方法为：步骤一、如图1a和1b所示，在Invar材料1上涂覆(coating)一层PR(光阻层)2，经过EXP(曝光)，developing (显影)以及baking(烘烤)等工序，留下掩模板非开口区域的光阻层2，去除掩模板开口区域的光阻层2，并且二次硬化；步骤二、如图1c所示，在步骤一的基础上用药液刻蚀无光阻层区域的invar材料1；步骤三、如图1d所示，在步骤二的基础上用剥离液将Invar材料1上的光阻层2剥离去除干净、则最终留下的为掩膜板1。该方法由于采用了湿法蚀刻，其精度比较差，而且开口尺寸比较大，像素密度(pixels per inch，PPI)上限也较小(约为350)，这些都是本领域技术人员所不愿见到的。

发明内容

针对上述存在的问题，本发明实施例公开了一种金属掩膜板的制备方法，包括：

提供一衬底；

于所述衬底上形成一层有机膜；

于所述有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，且所述开口暴露所述有机膜的部分表面；

于所述光阻层上形成一层金属膜，所述金属膜覆盖所述光阻层的上表面并填充所述开口；

移除位于所述光阻层之上的所述金属膜；

将所述金属膜与所述有机膜、所述光阻层分离，以形成所述金属掩膜板。

上述发明具有如下优点或者有益效果：

本发明实施例公开了一种金属掩膜板的制备方法，通过在有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，并于该开口中(采用PVD成膜配合研磨的方法)形成金属膜之后，将金属膜剥离形成掩膜板，从而提高掩膜板的精度和PPI的上限(PPI的上限可以达到500甚至更高)。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、外形和优点将会变得更加明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并未可以按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。

图1a～1d是本发明背景技术中制备金属掩膜板的方法的流程结构示意图；

图2是本发明实施例中制备金属掩膜板的方法流程图；

图3a～3i是本发明实施例中制备金属掩膜板的方法的流程结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体的实施例对本发明作进一步的说明，但是不作为本发明的限定。

如图2所示，本实施例涉及一种金属掩膜板的制备方法，优选的，该金属掩膜板为精密金属掩膜板；具体的，该方法包括如下步骤：

步骤S1，提供一衬底100，在本发明的实施例中，该衬底100可以为柔性衬底或刚性衬底(例如玻璃基板等)，只要该衬底100的材质能够便于后续形成的有机膜101从衬底100上剥离即可，如图3a所示的结构。

步骤S2，于衬底100上形成一层有机膜101，由于于衬底100上形成该有机膜101的步骤并非本发明改进的重点，在此便不予以赘述，如图3b所示的结构。

在本发明一个可选的实施例中，有机膜101的材质为聚酰亚胺(PI)。

步骤S3，于有机膜101之上形成具有若干开口的光阻层102，且该开口暴露有机膜101的部分表面。

在本发明一个可选的实施例中，上述步骤S3具体包括：

步骤S31，于有机膜101之上通过旋涂的方式形成一光阻层102，如图3c所示的结构。