[发明专利]一种金属掩膜板的制备方法在审
| 申请号： | 201610333212.0 | 申请日： | 2016-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN107419216A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 王国兵 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L21/027;G03F1/00 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 掩膜板 制备 方法 | ||
1.一种金属掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一衬底；
于所述衬底上形成一层有机膜；
于所述有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，且所述开口暴露所述有机膜的部分表面；
于所述光阻层上形成一层金属膜，所述金属膜覆盖所述光阻层的上表面并填充所述开口；
移除位于所述光阻层之上的所述金属膜；
将所述金属膜与所述有机膜、所述光阻层分离，以形成所述金属掩膜板。
2.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述有机膜的材质为聚酰亚胺。
3.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述于所述有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，且所述开口暴露所述有机膜的部分表面的步骤包括：
于所述有机膜之上形成一光阻层；
图案化所述光阻层，形成具有若干开口的光阻层，所述开口暴露所述有机膜的部分表面；
对所述光阻层进行硬化。
4.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述金属膜为Ni-Fe合金。
5.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用物理气相沉积的方法形成所述金属膜。
6.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用研磨的方法移除位于所述光阻层之上的所述金属膜。
7.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述将所述金属膜与所述有机膜、所述光阻层分离，以形成所述金属掩膜板的步骤包括：
将所述有机膜、所述金属膜和所述光阻层从所述衬底上剥离；
将所述有机膜和所述光阻层剥离去除，所述金属膜形成所述金属掩膜板。
8.如权利要求7所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用激光束将所述有机膜、所述金属膜和所述光阻层从所述衬底上剥离。
9.如权利要求7所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用剥离液将所述有机膜和所述光阻层剥离去除，所述金属膜形成所述金属掩膜板。
10.如权利要求9所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述剥离液为碱性液体。
11.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述金属掩膜板为精密金属掩膜板。
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