[发明专利]一种硅片隐裂检测系统有效
申请号: | 201610330430.9 | 申请日: | 2016-05-18 |
公开(公告)号: | CN105789082B | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 朱洪伟;曹伟兵 | 申请(专利权)人: | 上海柏凌电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 上海世贸专利代理有限责任公司31128 | 代理人: | 严新德 |
地址: | 201108 上海市闵*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 检测 系统 | ||
1.一种硅片隐裂检测系统,其特征在于,包括:发送模块,所述发送模块用于获取硅片;气动测试模块,所述气动测试模块接收所述发送模块输送的硅片,并对硅片进行气动测试;振动测试模块,所述振动测试模块接收经气动测试过的硅片,并对硅片进行振动测试;图像测试模块,所述图像测试模块接收经振动测试过的硅片,并对硅片进行图像测试;接收模块,所述接收模块用于接收经图像测试过的硅片。
2.根据权利要求1所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述发送模块包括:
放置单元,硅片堆叠在所述放置单元中;
输送单元,所述输送单元用于获取堆叠在所述放置单元中的硅片。
3.根据权利要求2所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述放置单元包括:
底座;
硅片围栏,所述硅片围栏设置在所述底座上,硅片放置于所述硅片围栏中;
升降机构,所述升降机构设置在所述底座下方;所述升降机构的位置与所述硅片围栏的位置相对应。
4.根据权利要求3所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述输送单元包括:
气缸,所述气缸设置在所述硅片围栏上方;
输送电缸,所述输送电缸可在所述电缸的长度方向上滑动;
吸盘,所述吸盘设置所述气缸上。
5.根据权利要求3所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述放置单元还包括一吹风机构,所述吹风机构设置在所述底座上。
6.根据权利要求1所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述气动测试模块包括:
支架;
内风帘,两个所述风帘分别与所述支架连接;
外风帘,两个所述外风帘分别设置在两个所述内风帘的外侧。
7.根据权利要求1所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述振动测试模块包括:
上下气缸,在所述上下气缸固定于振动机构上;
托片,所述托片设置在所述振动机构上;
限位块,所述限位块设置在所述托片上,所述限位块在所述托片上围成一振动区域。
8.根据权利要求1所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述图像测试模块包括:
成像机构,在所述成像机构内设有通信模块;
控制单元,所述成像机构通过所述通信模块与所述控制单元通讯。
9.根据权利要求1所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述接收模块包括合格片接收机构和不良片接收机构。
10.根据权利要求1所述的硅片隐裂检测系统,其特征在于,所述气动测试模块和所述振动测试模块还包括碎片料斗。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造