[发明专利]蒸发源检测系统以及检测方法、蒸镀设备

权利要求书

1.一种蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源检测系统包括：

设置于蒸发源的喷嘴上方的质量传感器，一个喷嘴对应至少一个所述质量传感器，所述质量传感器用于在进行蒸镀前检测由该质量传感器所对应的喷嘴喷出并附着在该质量传感器上的蒸镀材料的质量；

与所述质量传感器连接的喷嘴堵塞程度分析单元，所述喷嘴堵塞程度分析单元根据所述质量传感器所检测得到的蒸镀材料的质量，分析该质量传感器所对应的喷嘴的堵塞程度；

所述蒸发源检测系统还包括：与所述蒸发源安装在同一真空腔室内的残余气体分析仪，所述残余气体分析仪用于检测蒸镀过程中所述真空腔室内的气体组分，并根据所述真空腔室内的气体组分判断从所述蒸发源内挥发出的蒸镀材料是否变性。

2.根据权利要求1所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源的每个喷嘴的上方均对应设置有至少一个所述质量传感器。

3.根据权利要求1或2所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述质量传感器组成石英晶体微天平。

4.根据权利要求1所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源检测系统还包括：

与所述蒸发源的各喷嘴一一对应设置的多个热电偶，每个所述热电偶经过对应的喷嘴插入所述蒸发源的坩埚内部，所述热电偶用于在进行蒸镀前检测对应的喷嘴下方的坩埚内部区域的温度；

与所述多个热电偶连接的坩埚温度调控单元，所述坩埚温度调控单元用于根据所述热电偶所检测到的各喷嘴下方的坩埚内部区域的温度，对所述坩埚内部的温度进行调控，使所述坩埚内部各个区域的温度均达到蒸镀所需要的温度。

5.根据权利要求1所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源检测系统还包括：

一一对应地设置于所述蒸发源的各喷嘴上方的多个压力测量仪，所述压力测量仪用于在进行蒸镀前检测对应的喷嘴下方的坩埚内部区域的压力；

与所述多个压力测量仪连接的压力调控单元，所述压力调控单元用于根据所述压力测量仪所检测到的各喷嘴下方的坩埚内部区域的压力，对所述坩埚内部的压力进行调控，使所述坩埚内部各个区域的压力均达到蒸镀所需要的压力。

6.根据权利要求1所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源检测系统还包括：

安装在所述蒸发源所处的真空腔室外的激光扫描仪，所述激光扫描仪用于扫描蒸镀过程中蒸发源的坩埚的外部尺寸；

与所述激光扫描仪连接的坩埚变形分析单元，所述坩埚变形分析单元用于根据所述激光扫描仪所扫描到坩埚的外部尺寸，分析所述坩埚的变形程度。

7.根据权利要求1所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源检测系统还包括：

安装在所述蒸发源的盖板一侧的电馈通；

与所述电馈通连接的盖板清洁程度分析单元，所述盖板清洁程度分析单元用于检测蒸镀过程中所述盖板的电阻值，分析所述盖板的清洁程度。

8.根据权利要求1所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源检测系统还包括：与所述蒸发源安装在同一真空腔室内的滤网，所述滤网用于采集蒸镀过程中粒径大于或等于设定值的蒸镀材料颗粒。

9.根据权利要求1所述的蒸发源检测系统，其特征在于，所述蒸发源检测系统还包括：

与所述蒸发源安装在同一真空腔室内的光学扫描仪，所述光学扫描仪用于扫描蒸镀过程中所述真空腔室的内部环境，生成包括弥散在所述真空腔室内的蒸镀材料颗粒的粒径信息和分布情况信息的图像；

与所述光学扫描仪连接的真空腔室清洁程度分析单元，所述真空腔室清洁程度分析单元根据所述光学扫描仪所生成的图像，分析所述真空腔室内的清洁程度。