[发明专利]一种光致发光钻石检测方法及装置在审

专利信息
申请号: 201610280268.4 申请日: 2016-04-28
公开(公告)号: CN105784648A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 宋光均 申请(专利权)人: 广州标旗电子科技有限公司
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63;G01N21/64;G01N21/65
代理公司: 北京市盈科律师事务所 11344 代理人: 谌杰君
地址: 510663 广东省广州市广州*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光致发光 钻石 检测 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及钻石检测领域,具体涉及一种光致发光钻石检测方法 及装置。

背景技术

光致发光是指物体依赖外界光源进行照射,从而获得能量,产生 激发导致发光的现象,它大致经过吸收、能量传递及光发射三个主要 阶段,光的吸收及发射都发生于能级之间的跃迁,都经过激发态。而 能量传递则是由于激发态的运动。紫外辐射、可见光及红外辐射均可 引起光致发光。如磷光与荧光。

光致发光光谱(PhotoluminescenceSpectroscopy,简称PL谱), 指物质在光的激励下,电子从价带跃迁至导带并在价带留下空穴;电 子和空穴在各自在导带和价带中通过弛豫达到各自未被占据的最低 激发态(在本征半导体中即导带底和价带顶),成为准平衡态;准平 衡态下的电子和空穴再通过复合发光,形成不同波长光的强度或能量 分布的光谱图。光致发光过程包括荧光发光和磷光发光。

光致发光的优点:设备简单,无破坏性,对样品尺寸无严格要求: 分辨率高,可做薄层和微区分析。光致发光的缺点:通常只能做定性 分析,而不作定量分析;如果做低温测试,需要液氦降温,条件比较 苛刻;不能反映出非辐射复合的深能级缺陷中心。在激发光能量不是 非常大的情况下,光致发光光谱测试是一种无损的测试方法,可以快 速、便捷地表征半导体材料的缺陷、杂质以及材料的发光性能。

钻石的化学成分是碳元素,它的晶体结构是4个碳原子构成的四 面体。纯钻石是无色透明的,但绝大多数的天然钻石中都含有微量的 杂质元素。据分析,C在钻石中的质量分数可达99.95%,其次要成 分有N、B、H等杂质。

目前主要采用紫外可见吸收光谱和拉曼光谱来测量,紫外可见 吸收光谱用于测量415、452nm、465nm、478nm等波峰,但由于灵敏度 低,有些弱信号无法测量,而且需要做参比校正,参比片容易脏,容易 导致测量误差,测量光斑太大,对于小颗粒样品很难测量;拉曼光谱 可判定是否钻石,以及部分合成钻石,但不能判断出是否是Ia型天然 钻石,通常需要2台设备甚至更多的设备,且价格昂贵。

发明内容

针对上述问题,本发明旨在提供一种低成本高效率高精度的光致 发光钻石检测方法及装置。

为实现该技术目的,本发明的方案是:一种光致发光钻石检测装 置,包括光源、工作台、列阵检测器、数据处理终端,所述工作台上 放置有待检样品,所述光源的波长为波长小于等于410nm的单色光或 者混合光,所述光源发出光照射到待检样品上发生反射,反射光线射 入列阵检测器后进行检测,进而将反射光线的光子信息依波长顺序转 换为电信号,然后将该电信号通过模数转换为数字信号后,传输到数 据处理终端并形成实时的光致发光光谱图。

作为优选,所述列阵检测器和待检样品之间设置有用于吸收背景 光的高通滤光片,高通滤光片过滤掉背景光,降低背景干扰,提高谱 图的辨识度。

作为优选,所述光源与待检样品之间设置有用于过滤入射光的第 一滤光片,通过第一滤光片可以滤掉光源发出的其他波长的光线,获 得稳定的单色光或者多种单一波长组成的混合光。

作为优选,所述工作台上设置有样品槽和XY轴活动装置,所述 待测样品置于样品槽内,所述样品槽固定在XY轴活动装置上,所述 样品槽可以沿XY轴自由活动,实现多个样品自动测试。

一种光致发光钻石检测方法,包括如下步骤:

第一步,照射,将待检样品置于波长小于等于410nm的光源下进 行照射;

第二步,获取光谱图,通过列阵检测器检测待检样品受激发产生 的光线,进而将光线的光子信息依波长顺序转换为电信号,然后将该 电信号通过模数转换为数字信号后,传输到数据处理终端并形成光致 发光光谱图;

第三步,分析光谱图,

a.进行初步判定,根据特征峰,判定该待测样品是否为钻石,但 不区分是天然还是人造,

特征峰的计算公式为(A1为入射光,A2为出射光,单位nm):

A2=1000000/(10000000/A1-1332);

b.随后分析光致发光光谱图中有415nm的波峰,则判定该待测样 品为Ⅰa型天然钻石;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州标旗电子科技有限公司,未经广州标旗电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610280268.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top