[发明专利]黑曲霉菌株W35及其在降解赭曲霉毒素A中的应用有效

专利信息
申请号: 201610270913.4 申请日: 2016-04-27
公开(公告)号: CN107312719B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 梁志宏;王晓云;许文涛;王玉萍 申请(专利权)人: 中国农业大学
主分类号: C12N1/14 分类号: C12N1/14;A62D3/02;C02F3/34;C12R1/685;A62D101/28;C02F101/34
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君
地址: 100193 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 曲霉 菌株 w35 及其 降解 毒素 中的 应用
【权利要求书】:

1.黑曲霉(Aspergillus niger)W35,其保藏编号为CGMCC No.12104。

2.权利要求1所述黑曲霉W35在降解赭曲霉毒素A中的应用。

3.根据权利要求2所述的应用,其特征在于,包括以下步骤:

将含105-107个孢子的黑曲霉W35孢子悬液接种于含有1-6μg/mL赭曲霉毒素A的500mLYES培养基中,接种量为0.5-3v/v%,于27℃-29℃静置培养13-19天;培养结束后,过滤去除菌丝体,所得上清再用0.45μm滤膜过滤,去除残留霉菌孢子,将500μL所得上清加至离心管中,同时加入终浓度为10-60g/L的赭曲霉毒素A,然后将离心管置于摇床上,36℃-38℃140-160rpm避光保温反应11-13h。

4.根据权利要求3所述的应用,其特征在于,包括以下步骤:

将含106个孢子的黑曲霉W35孢子悬液接种于含有1μg/mL赭曲霉毒素A的500mL YES培养基中,接种量为2v/v%,于28℃静置培养14天;培养结束后,过滤去除菌丝体,所得上清再用0.45μm滤膜过滤,去除残留霉菌孢子,将500μL所得上清加至离心管中,同时加入浓度为10g/L的赭曲霉毒素A1μL,然后将离心管置于摇床上,37℃150rpm避光保温反应12h。

5.根据权利要求2所述的应用,其特征在于,包括以下步骤:

将含105-107个孢子的黑曲霉W35孢子悬液接种于含有1-6μg/mL赭曲霉毒素A的500mLYES培养基中,接种量为0.5-3v/v%,于27℃-29℃静置培养13-19天;培养结束后,过滤去除菌丝体,向所得上清中加入硫酸铵固体,使硫酸铵的饱和度达到40%,4℃放置2h,12000rpm离心30min,沉淀用PBS溶液溶解,得溶液I;向溶液I中继续加入硫酸铵固体至硫酸铵饱和度达到60%,4℃放置2h,12000rpm离心30min,沉淀用PBS溶液溶解,得溶液II;向溶液II中继续加入硫酸铵固体至硫酸铵饱和度达到80%,4℃放置2h,12000rpm离心30min,沉淀用PBS溶液溶解,得粗酶液;将500μL粗酶液加至离心管中,同时加入终浓度为10-60g/L的赭曲霉毒素A,然后将离心管置于摇床上,36℃-38℃140-160rpm避光保温反应11-13h。

6.根据权利要求5所述的应用,其特征在于,包括以下步骤:

将含106个孢子的黑曲霉W35孢子悬液接种于含有1μg/mL赭曲霉毒素A的500mL YES培养基中,接种量为2v/v%,于28℃静置培养14天;培养结束后,过滤去除菌丝体,向所得上清中加入硫酸铵固体,使硫酸铵的饱和度达到40%,4℃放置2h,12000rpm离心30min,沉淀用PBS溶液溶解,得溶液I;向溶液I中继续加入硫酸铵固体至硫酸铵饱和度达到60%,4℃放置2h,12000rpm离心30min,沉淀用PBS溶液溶解,得溶液II;向溶液II中继续加入硫酸铵固体至硫酸铵饱和度达到80%,4℃放置2h,12000rpm离心30min,沉淀用PBS溶液溶解,得粗酶液;将500μL粗酶液加至离心管中,同时加入终浓度为10g/L的赭曲霉毒素A,然后将离心管置于摇床上,37℃150rpm避光保温反应12h。

7.权利要求1所述黑曲霉W35在制备赭曲霉毒素A生物降解剂中的应用。

8.由权利要求1所述黑曲霉W35制备的赭曲霉毒素A生物降解剂。

9.根据权利要求8所述的生物降解剂,其特征在于,其活性成分为黑曲霉W35的发酵液、由其发酵液制备的粗酶液、菌体裂解液或孢子悬液。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国农业大学,未经中国农业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610270913.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top