[发明专利]一种掩膜版及彩色滤光片基板的制备方法

说明书

本发明公开了一种掩膜版，包括：基板；多个遮光部，分别间隔设置在所述基板的表面；多个半透光部，分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置，其中，在相邻的两个所述遮光部之间，相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域。本发明还公开一种彩色滤光片基板的制备方法。本发明所提供的掩膜版在遮光部与透光区域之间设置两个半透光部，在使用该掩膜版进行曝光时，因对应半透光部的黑色光刻胶材料层的曝光量小于对应透光区域的黑色光刻胶材料层的曝光量，使得对应半透光部的黑色光刻胶材料层在显影时的溶解度介于对应透光区域及遮光部的溶解度之间，从而起到一个缓冲的作用，易于通过控制显影时间提高显影精度。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜版及彩色滤光片基板的制备方法。

背景技术

随着显示屏技术的发展，窄边框及清晰度高的显示屏越来越受到消费者们的青睐。为满足消费者们的需求，在对影响到显示屏清晰度及尺寸的黑矩阵的精度也要求越高。目前在制作黑矩阵的过程中，通常采用扫描式曝光及接近式曝光。其中扫描式曝光精度较高，但因费用较为昂贵而使得制造成本较高，因此大多数企业会采用接近式曝光方式，但接近式曝光方式所用的掩膜版为“透光区-遮光区”结构，使得曝光充足的与未曝光的光刻胶直接接触，在后续显影过程中因难以控制时间而影响到光刻胶的尺寸精度，进而使得所制成的黑矩阵图案的尺寸精度较低。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种在制作黑矩阵时能提高黑矩阵精度以及显示面板的清晰度的掩膜版。

另外，还有必要提供一种彩色滤光片基板的制备方法。

为解决上述技术问题，本发明提供的一种技术方案是：提供一种掩膜版，包括：

基板；

多个遮光部，分别间隔设置在所述基板的表面；

多个半透光部，分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置，其中，在相邻的两个所述遮光部之间，相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域。

其中，所述透光区域的宽度大于所述半透光部的宽度。

其中，所述基板的材料为石英，所述遮光部的材料是铬。

其中，所述半透光部的材料为灰色调掩膜版或半色调掩膜版所使用的材料。

为解决上述技术问题，本发明提供的另一种技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制备方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵，所述在衬底基板上形成黑矩阵的步骤，包括：

在所述衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶材料，形成黑色光刻胶材料层；

采用掩膜版对所述黑色光刻胶材料层进行曝光；

进行显影，以在所述衬底基板上形成黑矩阵；

其中，所述掩膜版包括：

基板；

多个遮光部，分别间隔设置在所述基板的表面；

多个半透光部，分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置，其中，在相邻的两个所述遮光部之间，相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域。

其中，所述黑色光刻胶材料层经过曝光后，分为第一曝光区、第二曝光区及第三曝光区，所述第一曝光区对应所述掩膜版的遮光部，所述第二曝光区对应所述掩膜版的半透光部，所述第三曝光区对应所述掩膜版的透光区域，其中所述第三曝光区、第二曝光区及第一曝光区的曝光量依次减小。

其中，在显影时，所述第一曝光区、第二曝光区及第三曝光区在同等条件下的溶解度依次减小。

其中，所述进行显影，以在所述衬底基板上形成黑矩阵具体包括：