[发明专利]一种掩膜版及彩色滤光片基板的制备方法

权利要求书

1.一种彩色滤光片基板的制备方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵的步骤，包括：

在所述衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶材料，形成黑色光刻胶材料层；

采用掩膜版对所述黑色光刻胶材料层进行曝光；

进行显影，以在所述衬底基板上形成黑矩阵；

其中，所述掩膜版包括：

基板；

多个遮光部，分别间隔设置在所述基板的表面；

多个半透光部，分别紧靠多个所述遮光部的两侧边而设置，其中，在相邻的两个所述遮光部之间，相邻的两个所述半透光部之间形成透光区域；

其中，所述黑色光刻胶材料层经过曝光后，分为第一曝光区、第二曝光区及第三曝光区，所述第一曝光区对应所述掩膜版的遮光部，所述第二曝光区对应所述掩膜版的半透光部，所述第三曝光区对应所述掩膜版的透光区域，其中所述第三曝光区、第二曝光区及第一曝光区的曝光量依次减小；

其中，在显影时，所述第一曝光区、第二曝光区及第三曝光区在同等条件下的溶解度依次减小；

其中，所述进行显影，以在所述衬底基板上形成黑矩阵具体包括：将曝光后的衬底基板至于显影液中，以将所述第一曝光区及第二曝光区完全去除，留下所述第三曝光区，以使所述第三曝光区域的宽度等于所述透光区域的宽度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述黑矩阵的宽度等于所述掩膜版上所述透光区域的宽度。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述半透光部的材料为灰色调掩膜版或半色调掩膜版所使用的材料。