[发明专利]降低预抽腔体中芯片温度的方法及芯片降温装置有效
| 申请号: | 201610218470.4 | 申请日: | 2016-04-08 |
| 公开(公告)号: | CN107275251B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
| 发明(设计)人: | 林志鑫;牛景豪 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 金华 |
| 地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 降低 预抽腔体中 芯片 温度 方法 降温 装置 | ||
本发明揭示了一种降低预抽腔体中芯片温度的方法及芯片降温装置。所述降低预抽腔体中芯片温度的方法包括:提供一预抽腔体及一芯片承载盘,该芯片承载盘装设于该预抽腔体内;以及导入冷却气体至该预抽腔体内,该冷却气体的成分包含有氮气以及体积比为100ppm~1%的二氧化碳。
技术领域
本发明涉及半导体技术工艺及设备领域,特别是涉及一种降低预抽腔体中芯片温度的方法及芯片降温装置。
背景技术
当芯片经过反应腔体的高温加工之后,必须将芯片运送至一预抽腔体(LoadLock)进行冷却,直到芯片冷却至小于摄氏100度以后,才可将芯片传送至晶盒内,以避免芯片过热而导致晶盒变形。因此,预抽腔体的冷却速率一直以来成为芯片产能的瓶颈。
目前的预抽腔体设有芯片承载盘、气体入口及气体出口,且预抽腔体的内表面以及芯片承载盘的表面的材质为抛光氧化铝。借由气体入口通入氮气来降低预抽腔体内的温度以及提升预抽腔体的热辐射吸收能力,以便可以更快速地降低芯片的温度。为了避免芯片背面受到污染,芯片承载盘必须使用支撑脚将芯片隔离于芯片承载盘的表面,但同时也阻绝了芯片与芯片承载盘之间的热传导。由于抛光氧化铝的热辐射吸收系数只有0.05W/(m·K),几乎不会吸收热辐射。至于氮气的热辐射吸收系数也只有0.0196W/(m·K),所以氮气也几乎不会吸收热辐射。至于预抽腔体内的热对流,因为要避免湍流所引起的颗粒物污染,只能采用散热效果较差的层流。
有鉴于此,目前有需要一种降低芯片温度的装置及方法的改良,以改善上述的缺点。
发明内容
本发明的目的在于提供一种降低预抽腔体中芯片温度的方法及芯片降温装置,可以更快速地降低芯片温度,相对提高芯片的产能。
为解决上述技术问题,本发明的一实施例提供一种降低预抽腔体中芯片温度的方法,包括:提供一预抽腔体及一芯片承载盘,该芯片承载盘装设于该预抽腔体内;以及导入冷却气体至该预抽腔体内,该冷却气体的成分包含有氮气以及体积比为100ppm~1%的二氧化碳。
本发明的一实施例提供一种芯片降温装置,包括:一预抽腔体;一芯片承载盘,该芯片承载盘装设于该预抽腔体内;以及一气体入口,该气体入口连接于该预抽腔体,冷却气体经由该气体入口导入至该预抽腔体内,该冷却气体的成分包含有氮气以及体积比为100ppm~1%的二氧化碳。
附图说明
图1为本发明提供的降低预抽腔体中芯片温度的方法的流程图;
图2为本发明一实施例所提供的芯片降温装置的示意图。
其中,100芯片降温装置
102 预抽腔体
104 芯片承载盘
106 气体入口
108 气体出口
110 气体扩散器
112 抛光氧化铝内表面
114 抛光氧化铝表面
120、122 支撑脚
124 冷却气体
126 氮气
128 二氧化碳
200 芯片
200A 背面
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新昇半导体科技有限公司,未经上海新昇半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610218470.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:降低预抽腔体中芯片温度的方法及芯片降温装置
- 下一篇:基板处理装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





