[发明专利]一种具有照相功能的闪存存储器及制备方法、电子装置

权利要求书

1.一种具有照相功能的闪存存储器，其特征在于，所述闪存存储器包括若干存储器单元，所述存储器单元包括：

基底；

栅极叠层，位于所述基底上方，包括依次层叠的隧穿氧化物层、浮栅层、隔离层和控制栅层；

互连结构，位于所述栅极叠层的上方并与所述栅极叠层电连接；

滤光膜，位于互连结构的上方；

棱镜，设置于所述滤光膜的表面上。

2.根据权利要求1所述的闪存存储器，其特征在于，在所述互连结构上方、所述滤光膜的下方还形成有钝化层，所述钝化层具有平坦的表面。

3.根据权利要求1所述的闪存存储器，其特征在于，所述滤光膜为紫外线滤光膜。

4.根据权利要求1所述的闪存存储器，其特征在于，所述互连结构包括交替设置的若干通孔和若干金属层，所述若干通孔的长和宽的关键尺寸小于所述棱镜的长和宽的关键尺寸；所述金属层的长和宽的关键尺寸小于所述棱镜的长和宽的关键尺寸。

5.根据权利要求1所述的闪存存储器，其特征在于，所述棱镜呈正方形结构。

6.根据权利要求1所述的闪存存储器，其特征在于，所述闪存存储器包括彼此交叉设置的若干行字线和若干列位线，在所述字线和位线的交叉处设置有上述存储器单元。

7.根据权利要求6所述的闪存存储器，其特征在于，所述存储器单元彼此之间的距离相等。

8.一种具有紫外照相功能的闪存存储器的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供基底，在所述基底上形成栅极叠层，其中所述栅极叠层包括依次层叠的隧穿氧化物层、浮栅层、隔离层和控制栅层；

在所述栅极叠层上形成互连结构与所述栅极叠层形成电连接；

在所述互连结构的上方依次形成滤光膜和棱镜，以形成成像器 件。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，在形成所述棱镜之前还进一步包括在所述互连结构上方形成钝化层并且平坦化所述钝化层的步骤。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述互连结构包括交替设置的若干通孔和若干金属层，所述若干通孔的长和宽的关键尺寸小于所述棱镜的长和宽的关键尺寸；所述金属层的长和宽的关键尺寸小于所述棱镜的长和宽的关键尺寸。

11.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述滤光膜为紫外线滤光膜。

12.一种电子装置，其特征在于，包括如权利要求1至7之一所述的闪存存储器。