[发明专利]一种高精度蒸镀用复合掩模板组件制作方法

权利要求书

1.一种高精度蒸镀用复合掩模板组件制作方法，其包括以下步骤：

S1：掩模开口层制作步骤，制作表面具有阵列孔图形区的掩模开口层，所述阵列孔图形区由连续小开口阵列构成；

S2：掩模外形层制作步骤，在制作完成的掩模开口层一表面涂布或压贴一层有机感光材料，并通过曝光、显影工艺形成掩模外形层，所述掩模外形层上具有若干外形开口，所述掩模外形层与所述掩模开口层共同构成掩模单元；

S3：掩模组件组装步骤，将掩模单元绷紧拉平后按一定的规则固定在掩模框架上，形成复合掩模板组件；

其特征在于，所述复合掩模板组件至少包含一组掩模单元，所述掩模单元的掩模开口层固定在掩模框架上，所述掩模外形层贴合的设置在掩模开口层的下表面；所述掩模开口层上阵列孔图形区的覆盖范围能够完全覆盖所述掩模外形层上的外形开口，所述掩模外形层上的外形开口与所述掩模开口层上阵列孔图形区重合部分构成掩模板蒸镀区。

2.根据权利要求1所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，所述S1步骤中的掩模开口层由金属材质制成，其通过激光工艺、电铸工艺、蚀刻工艺中的一种或多种工艺结合制作形成。

3.根据权利要求2所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，构成所述掩模开口层的材质为因瓦材料。

4.根据权利要求1所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，所述掩模组件组装步骤S3中，先固定掩模板组件中间掩模单元，再依次交替固定两侧相邻的掩模单元。

5.根据权利要求1、2或3所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，在所述掩模开口层的长度方向上，所述掩模开口层上阵列孔图形区的区域形状为矩形、两端为燕尾型或两端部为收缩型。

6.根据权利要求1、2、3或4所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，所述S3步骤中，构成所述掩模板组件掩模单元的掩模开口层通过激光焊接工艺直接固定在所述掩模框架上。

7.根据权利要求1所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，构成所述掩模单元的掩模开口层两端具有用于夹持的外部夹持端，所述外部夹持端是在所述掩模单元的长度方向上在掩模开口层两端延伸形成。

8.根据权利要求7所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，所述掩模开口层两端的外部夹持端与所述掩模开口层两端通过凹槽连接。

9.根据权利要求8所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，所述掩模开口层上的凹槽通过蚀刻或激光切割形成。

10.根据权利要求7、8或9所述的复合掩模板组件制作方法，其特征在于，所述S3步骤之后还包括以下步骤：

S4：外部夹持端去除步骤，通过机械撕除或激光切除的方式去除所述掩模开口层两端的外部夹持端。