[发明专利]一种CSP共晶焊接方法有效
申请号: | 201610104163.3 | 申请日: | 2016-02-26 |
公开(公告)号: | CN105609439B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 贾辰宇;孙智江 | 申请(专利权)人: | 海迪科(南通)光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;B23K37/00;B23K37/04 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙)11316 | 代理人: | 滑春生 |
地址: | 226500 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 csp 焊接 方法 | ||
技术领域
本发明属于半导体器件制造工艺技术领域,特别涉及一种CSP共晶焊接方法。
背景技术
CSP封装,即芯粒级封装是近几年发展起来的封装形式,目前已有上百种产品,并且不断出现一些新的产品。尽管如此,国内CSP技术还是处于初级阶段,没有形成统一的标准。现今市场上的CSP产品中芯粒焊盘与封装基片焊盘的连接方式大多采用倒装片键合,封装基板也采用几十年前的陶瓷基板。但是把硅芯粒安装到陶瓷基板上之后,由于陶瓷基板与PCB基板的热膨胀系数不匹配、差别太大,很难将陶瓷基板安置到PCB基板上。
为了解决上述问题,一般主要通过共晶的方法把芯粒连接在COB基板上,即在COB基板上点上膏状共晶焊料,再将若干芯粒置于基板的设定位置上,然后在一定的温度和压力下,使芯粒与共晶焊料发生共晶反应,进而使芯粒和基板结合在一起。
虽然共晶工艺能显著提高芯粒的可靠性,然而,共晶工序也存在一定的缺陷:1.现有的共晶方法需将芯粒与基板一一压合,从而使得共晶时间较长;2.芯粒和基板的结合力问题,致使共晶工艺的结合力不够,共晶精度不精确及CSP成品的性能低。
因此,研发一种能够减短芯粒共晶时间、提高芯粒共晶精度及CSP成品的性能的CSP共晶焊接方法是非常有必要的。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种能够减短芯粒共晶时间、提高芯粒共晶精度及CSP成品的性能的CSP共晶焊接方法。
为解决上述技术问题,本发明的技术方案为:一种CSP共晶焊接方法,其创新点在于:所述共晶焊接方法包括如下步骤:
(1)点共晶焊锡:通过固晶机把共晶焊锡点在COB基板电路上;
(2)固晶:通过固晶机把若干颗CSP芯粒固定在点有共晶焊锡的COB基板电路上;
(3)共晶:将固晶后的COB基板放置在300℃~400℃的高温轨道上,通过压合装置同时下压COB基板上的芯粒,将芯粒与共晶焊锡同时压合,达到共晶焊;压合分为三个阶段,第一压合阶段以8g/s~12g/s的速度逐渐增加压合压力,压合时间为40s,第二压合阶段以40s时所达压力进行压合40s,第三压合阶段以16g/s~24g/s的速度逐渐减缓压合压力,压合时间为20s;
(4)点胶:把荧光粉和胶水充分搅拌均匀,制得荧光粉胶,荧光粉胶真空脱泡后,通过点胶机台喷涂在共晶后的COB基板表面,并对荧光粉胶进行胶固化;
(5)测试包装:待步骤(4)中COB基板表面的荧光粉胶固化后,进行性能测试,测试合格的CSP成品进行包装。
进一步地,所述步骤(3)中的压合装置包括施压部件和驱动施压部件的驱动装置,所述施压部件包括一压块,且所述压块的下表面均匀分布有垂直向下的金属探针;所述驱动装置为弹簧压合或气压。
本发明的优点在于:
(1)本发明CSP共晶焊接方法,与传统相比,将芯粒与基板一一压合改用压合装置同时将若干芯粒与基板压紧,进而能够大大缩短芯粒的共晶时间;同时,本发明中采用压合装置进行下压芯粒,进而能准确控制压合压力;此外,通过阶段性的压力控制,即先缓慢增加压力,压力达到一定要求,再以恒压施压,最后再缓慢减压,进而不会使因压力过大,造成芯粒表面损坏,也使得芯粒能够受压更均匀,进一步保证了芯粒共晶精度;
(2)本发明CSP共晶焊接方法,所采用的压合装置,包括压块,压块的下表面均匀分布有垂直向下的金属探针,金属探针与芯粒一一对应,并通过弹簧或气压方式进行压合芯粒,从而防止推力过大对芯粒表面造成损坏,既保证了芯粒共晶精度,也保证了CSP成品的合格率,进而提高了CSP成品的性能。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1是本发明中实施例1所采用压合装置的结构示意图。
图2是本发明中实施例2所采用压合装置的结构示意图。
图3是本发明中压合压力与压合时间的关系图。
具体实施方式
下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本发明,但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之中。
实施例1
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造