[发明专利]触控显示面板的制造方法

权利要求书

1.一种触控显示面板的制造方法，其特征在于，所述触控显示面板的制造方法包括：

提供显示面板半成品，所述显示面板半成品包括阵列基板、彩色滤光片基板与液晶层，所述液晶层位于所述阵列基板与所述彩色滤光片基板之间，所述显示面板半成品已完成所述阵列基板、所述彩色滤光片基板与所述液晶层之间的组装；

在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面形成与触控感测层图案互补的光阻图案；

在所述光阻图案和无所述光阻图案覆盖的所述彩色滤光片基板上形成ITO膜，所述ITO膜包括沉积在所述彩色滤光片基板表面的第一ITO膜和沉积在光阻上的第二ITO膜，所述第一ITO膜在成膜过程中高度结晶化，所述第二ITO膜因光阻抑制作用仍保持非晶状态；

利用草酸对非晶ITO和多晶ITO的蚀刻差异，选择性蚀刻所述ITO膜，所述第二ITO膜被草酸蚀刻去除，并露出所述光阻图案，所述第一ITO膜被保留；以及

剥落所述光阻图案，形成所述触控感测层图案。

2.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：所述ITO膜采用溅射镀膜的方式形成。

3.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：所述ITO膜的厚度大于800埃。

4.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面形成与所述触控感测层图案互补的所述光阻图案的步骤包括：

在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面涂覆适当厚度的光阻；

将预先制作好的所述触控感测层图案的掩模版对位放置于所述光阻上方，经曝光、显影将所述掩模版上的图案转移到所述光阻上，形成与所述触控感测层图案互补的所述光阻图案。

5.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：所述剥落光阻图案是采用光阻剥离液。