[发明专利]一种基板表面信息检测装置以及方法有效

专利信息
申请号: 201610087753.X 申请日: 2016-02-16
公开(公告)号: CN105700206B 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 范宇光;李京鹏;李建;王世超;田立民 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 彭瑞欣;陈源<国际申请>=<国际公布>=
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 信息 检测 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种基板表面信息检测装置,其特征在于,包括,喷淋源,图像传感器和图像判断处理单元,其中,所述喷淋源用于向待测基板表面均匀地喷洒液滴或在所述待测基板表面形成液体流,所述图像传感器用于记录并传输所述待测基板表面的液体图像信息;所述图像判断处理单元用于接收所述图像传感器传输的液体图像信息,并根据所述液体图像信息判断所述待测基板的表面信息,所述表面信息包括所述待测基板表面至少部分区域内的平整度和/或清洁度和/或亲疏水程度;所述图像判断处理单元是用于根据所述液体图像信息中液滴的分布和/或大小是否均匀来判断所述待测基板表面信息;或者,是用于根据所述液体图像信息中的所述液体流形成的液体膜表面的平整度来得到所述待测基板表面信息;所述图像判断处理单元还用于根据该液体图像信息确定所述待测基板表面内平整度和/或清洁度和/或亲疏水程度超出预设范围的区域在所述待测基板表面内的位置。

2.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置,其特征在于,所述液滴的直径范围为10-1μm到103μm。

3.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置,其特征在于,所述液滴的直径范围为1μm到30μm。

4.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置,其特征在于,所述液体流的流速范围为0.1mm/s到100mm/s。

5.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置,其特征在于,所述液体流的流速范围为1mm/s-10mm/s。

6.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置,其特征在于,所述液滴或液体流的成分为去离子水。

7.如权利要求1所述的基板表面信息检测装置,其特征在于,所述待测基板倾斜于水平方向角度为3°-10°地放置在提供液体流的所述喷淋源的下方。

8.一种基板表面信息检测方法,其特征在于,包括,

向水平放置的待测基板上均匀地喷洒液滴,或者,在所述待测基板表面形成液体流;

根据所述待测基板表面的液体图像信息判断所述待测基板的表面信息,所述表面信息包括所述待测基板表面至少部分区域内的平整度和/或清洁度和/或亲疏水程度;

根据所述液体图像信息判断所述待测基板的表面信息的步骤中,包括通过分析液体图像信息中所述待测基板表面液滴的分布间距和/或大小是否均匀来得到所述待测基板表面信息,或者,通过检测液体图像信息中所述待测基板表面的液体膜是否平整来得到所述待测基板表面信息;

确定所述待测基板表面上有附着异物或者所述待测基板存在亲疏水特性区域或者所述待测基板不平整的位置。

9.如权利要求8所述的基板表面信息检测方法,在根据所述液体图像信息判断所述待测基板的表面信息的步骤前,还包括存储所述待测基板表面的液体图像信息。

10.如权利要求8所述的基板表面信息检测方法,其中,所述在所述待测基板上形成液体流的步骤中,所述待测基板呈倾斜于水平方向角度为3°-10°放置。

11.如权利要求8所述的基板表面信息检测方法,其中,所述向水平放置的所述待测基板上均匀地喷洒液滴的步骤中,所述液滴的直径范围为10-1μm到103μm。

12.如权利要求8所述的基板表面信息检测方法,所述液滴的直径范围为1μm到30μm。

13.如权利要求8所述的基板表面信息检测方法,其中,向水平放置的所述待测基板上均匀地喷洒液滴,或者,在所述待测基板表面形成液体流的步骤中,所述液体流流速在0.1mm/s到100mm/s范围内。

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